[实用新型]一种大尺寸光栅制造设备

摘要

一种大尺寸光栅制造设备，属于高精度自动化刻蚀设备技术领域。X轴直线电机驱动被加工工件以极低速连续运动或纳米级定位运行，Z轴直线电机驱动化学涂胶或光刻处理盒运动，调节化学涂胶或光刻处理盒与被加工工件之间的距离。整机振动频率在10Hz以下，消除了设备自身振动及环境的振动噪声影响。被加工工件以极低速平稳运行时，CNC数控装置控制化学涂胶或光刻处理盒进行高质量连续均匀地镀膜。直线电机驱动被加工工件以纳米级定位精度极低速运行时，CNC数控装置控制化学涂胶或光刻蚀处理盒进行激光直写式或小尺寸激光干涉式刻蚀工作，在被加工工件的加工面刻蚀出高质量高密度的周期性纳米沟槽。本实用新型结构简单，提高了大尺寸微纳米结构的制造效率。

主权项

一种大尺寸光栅制造设备，其特征在于：该设备主要包括气浮静压平台、伺服动力平台、化学涂胶或光刻处理盒（31）、冷却设备及空压过滤设备集成体（19）和CNC数控装置（18）；气浮静压平台可以调节设备的水平度，为伺服动力平台提供稳定的结构支撑，并消除该设备的固有频率级环境的振动影响；伺服运动平台一方面驱动被加工工件（14）在X轴方向以微纳米精度连续扫描运动或精确定位运动，X轴方向位于水平方向，另一方面驱动化学涂胶或光刻处理盒（31）在Z轴方向上的运动，所述的X轴包括X1轴和X2轴，X1轴与X2轴互相平行；Z轴方向指与X轴垂直的竖直方向，精确调节化学涂胶或光刻处理盒（31）和被加工工件（14）的距离；冷却设备及空压过滤设备集成体（19）为气浮静压平台提供稳定的气源，并将伺服动力平台和化学涂胶或光刻处理盒的工作产热带走，避免热辐射对精密制造的影响；CNC数控装置（18）与伺服动力平台和化学涂胶或光刻处理盒（31）组成伺服闭环控制系统，控制被加工工件（14）的运动与化学涂胶或光刻处理盒（31）的镀膜或光刻工作精确匹配。