[实用新型]一种用于阵列基板检测的检测台有效
申请号: | 201320828616.9 | 申请日: | 2013-12-12 |
公开(公告)号: | CN203595601U | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 郭世波;魏振;陈庆友;李风;申明明;许金龙;赵琼 | 申请(专利权)人: | 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02;G02F1/13 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李迪 |
地址: | 230012 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于阵列基板检测的检测台,包括带有多个凹槽的活动平台,以及用于传送阵列基板的末端器,所述末端器包括多个设于活动平台凹槽相应位置的传送臂及其底部的支撑底座,所述活动平台的非凹槽表面设有背光。此外,所述传送臂的背面也设有背光,并可180°旋转与活动平台构成整体背光。本实用新型通过将末端器(YE)设计为可旋转且可上下做垂直运动的含有背光设计的装置,有效解决了在活动平台凹槽处无法添加背光设计的难题,做到待测基板下面完全覆盖背光的设计,使在背光条件下测试所有像素成为可能。本实用新型所述结构不会对活动平台的原有功能造成任何干扰,其结构、制造方法简单,易于实现。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 阵列 检测 | ||
【主权项】:
一种用于阵列基板检测的检测台,包括带有多个凹槽的活动平台,以及用于传送阵列基板的末端器,所述末端器包括多个设于活动平台凹槽相应位置的传送臂及其底部的支撑底座,其特征在于:所述活动平台的非凹槽表面设有背光。
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