[实用新型]一种柔性衬底卷对卷镀膜退火装置有效
申请号: | 201320813598.7 | 申请日: | 2013-12-11 |
公开(公告)号: | CN203644810U | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 张瀚铭;乔在祥;赵彦民;王赫;申绪男 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十八研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 | 代理人: | 李凤 |
地址: | 300384 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种柔性衬底卷对卷镀膜退火装置,包括用挡板真空腔室分割的送卷室、第一溅射室、第二溅射室和收卷室;送卷室内有放卷辊、张力辊和导向辊,收卷室内有收卷辊、张力辊和导向辊,其特点是:所述第二溅射室和收卷室之间用挡板还分割有退火室,退火室中有加热背板;每一挡板上均置有通过柔性衬底的气体隔离器。本实用新型通过在第二溅射室和收卷室之间用挡板分割出一退火室,当柔性衬底进行卷对卷连续镀膜的同时,也完成了镀膜后柔性衬底的退火处理,并且柔性衬底在退火时为单片退火,相对于整卷柔性衬底退火,不仅提高了薄膜电池制作的材料性能,而且大大提高了生产效率,并且制作过程简单,生产维护成本低。 | ||
搜索关键词: | 一种 柔性 衬底 镀膜 退火 装置 | ||
【主权项】:
一种柔性衬底卷对卷镀膜退火装置,包括真空腔室,所述真空腔室被挡板自左至右依次分割有送卷室、放置第一溅射靶的第一溅射室、放置第二溅射靶的第二溅射室和收卷室;所述送卷室和收卷室内各放置有带动柔性衬底移动的滚轴,送卷室内的滚轴包括放卷辊、张力辊和导向辊,收卷室内的滚轴包括收卷辊、张力辊和导向辊,其特征在于:所述第二溅射室和收卷室之间用挡板还分割有退火室,退火室中有加热背板;每一挡板上均置有通过柔性衬底的气体隔离器。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
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H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的