[实用新型]一种真空旋涂设备有效
| 申请号： | 201320807187.7 | 申请日： | 2013-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN203700199U | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 郭卫军 | 申请（专利权）人： | 湖北优泰显示技术有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/23 | 分类号： | C03C17/23 |
| 代理公司： | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人： | 王伟锋;刘铁生 |
| 地址： | 432500 湖北省孝感*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及ITO镀膜技术领域，尤其涉及一种真空旋涂设备。所述真空旋涂设备包括真空室，真空室内设置有旋转台，旋转台上设置有玻璃夹具；所述真空室的右侧依次设置有一级干燥室和二级干燥室，使得ITO膜的膜厚更均匀，产品穿透率和阻抗特性更理想。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 真空 设备 | ||
【主权项】：
一种真空旋涂设备，其特征在于：它包括真空室，真空室内设置有旋转台，旋转台上设置有玻璃夹具；所述真空室的右侧依次设置有一级干燥室和二级干燥室。
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