[实用新型]一种真空旋涂设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及ITO镀膜技术领域，尤其涉及一种真空旋涂设备。

背景技术

氧化铟锡（ITO）是一种N型半导体，常温下具有良好的导电性能，对可见光有很好的透过率，是生产液晶屏及触摸屏的关键材料之一。液晶显示器之所以能显示特定的图形，就是利用导电玻璃上的透明导电膜，经蚀刻制成特定外形的电极，上下导电玻璃制成液晶盒后，在这些电极上加适当电压信号，使具有偶极矩的液晶分子在电场作用下特定的方面排列，仅而显示出与电极波长相对应的图形。随着液晶屏及触摸屏技术的高速发展，如何使得ITO膜的膜厚更均匀，产品穿透率和阻抗特性更理想，成为函待解决的问题。

发明内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足而提供一种真空旋涂设备，使得ITO膜的膜厚更均匀，产品穿透率和阻抗特性更理想。

为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案来实现。

一种真空旋涂设备，它包括真空室，真空室内设置有旋转台，旋转台上设置有玻璃夹具；所述真空室的右侧依次设置有一级干燥室和二级干燥室。

进一步的，它还包括穿透率检验室，透率检验室设置于二级干燥室的右侧。

进一步的，它还包括阻抗特性检验室，阻抗特性检验室设置于透率检验室的右侧。

本实用新型的有益效果为：本实用新型所述一种真空旋涂设备，使得ITO膜的膜厚更均匀，产品穿透率和阻抗特性更理想。

附图说明

图1为本实用新型的原理框图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的说明。

如图1所示，本实用新型所述一种真空旋涂设备，它包括真空室1，真空室1内设置有旋转台10，旋转台10上设置有玻璃夹具11；所述真空室1的右侧依次设置有一级干燥室2和二级干燥室3。进一步的，它还包括穿透率检验室4，透率检验室设置于二级干燥室3的右侧。进一步的，它还包括阻抗特性检验室5，阻抗特性检验室5设置于透率检验室的右侧。工作时，将玻璃基片固定放置于真空旋涂设备的旋转台10上进行旋转，旋转台10位于真空旋涂设备的真空室1内，旋转台10转速为200rpm/min，旋转时间为80s，在玻璃基片的表面形成一层均匀的ITO凝胶；然后将玻璃基片放置于真空旋涂设备的一级干燥室2中，在85°C温度下干燥10~15分钟；然后再将玻璃基片放置于真空旋涂设备的二级干燥室3中，在150°C温度下热处理10~15分钟，使得多层ITO凝胶形成ITO膜；最后检查并记录产品的穿透率和阻抗特性，并判断产品是否为良品。该真空旋涂设备可自动完成旋涂、干燥、穿透率检验和阻抗特性检验，大大提高了生产效率，同时采用真空环境下进行旋涂，在没有风阻和压力差的影响下，能在玻璃基片的表面形成更为均匀的ITO凝胶，使得ITO膜的膜厚更均匀，有利于提高ITO膜导电玻璃的性能，产品穿透率和阻抗特性更理想。

所述一种真空旋涂设备，其应用于ITO膜导电玻璃生产方法时，包括如下步骤：

第一步，将大片玻璃切割成玻璃基片；

第二步，对玻璃基片进行磨边和倒角，并清除所产生的微粒；

第三步，对玻璃基片的表面进行研磨抛光处理；

第四步，以高精密洗净法完全洗净玻璃基片；

第五步，配置ITO膜凝胶：将一定量的铟溶解在浓酸盐中得到InCl₃溶液，取出一定量的InCl₃溶液，与乙酰丙酮按1:2—1:3的摩尔比混合搅拌得到透明溶液；再按透明溶液与乙二醇甲醚的质量比为80:5的比例加入乙二醇甲醚，在室温下搅拌，得到In溶胶；按In：Sn质量比为25:2的比例加入SnCl₄·5H₂O，搅拌20min得到In-Sn溶胶，然后按In-Sn溶胶与聚乙二醇的质量比为80:20的比例加入聚乙二醇，静置40min得到ITO膜胶液；

第六步，将ITO膜胶液涂于玻璃基片的中心处；

第七步，将玻璃基片固定放置于真空旋涂设备的旋转台10上进行旋转，旋转台10位于真空旋涂设备的真空室1内，旋转台10转速为200rpm/min，旋转时间为80s，在玻璃基片的表面形成一层均匀的ITO凝胶；

第八步，根据ITO膜的厚度要求，重复第六步和第七步，形成多层ITO凝胶，以满足ITO膜的厚度要求；

第九步，将玻璃基片放置于真空旋涂设备的一级干燥室2中，在85°C温度下干燥10~15分钟；