[实用新型]过程控制系统有效
| 申请号： | 201320782559.5 | 申请日： | 2013-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN203909605U | 公开（公告）日： | 2014-10-29 |
| 发明（设计）人： | S·F·阿米尔撒萨迈;J·L·斯诺巴杰 | 申请（专利权）人： | 费希尔控制国际公司 |
| 主分类号： | G05B23/02 | 分类号： | G05B23/02 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 郑立柱 |
| 地址： | 美国爱*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本实用新型公开了过程控制系统。一种范例设备包括存储器；处理器，所述处理器连接到包括指令的存储器，以使所述设备确定过程控制装置的第一位置是否处于所述过程控制装置的局部冲程位置；对所述第一位置处于局部冲程位置作出响应，基于配置信息计算目标输出压力；确定目标输出压力是否等于反馈压力，所述反馈压力对应于从所述过程控制装置输出的输出压力；计算目标输出压力与所述反馈压力之间的差异；以及通过所述差异改变所述输出压力。利用该范例设备，不需要将其中运行有该仪器的过程控制系统脱机取下，或受到影响，并且不需要用户输入，降低了校准期间由于用户输入引入误差的机会。 | ||
| 搜索关键词： | 过程 控制系统 | ||
【主权项】：
一种过程控制系统，其特征在于，包括： 位置读取器专用集成电路ASIC，其用于确定过程控制装置的第一位置是否处于所述过程控制装置的局部冲程位置； 位置计算器专用集成电路ASIC，其用于对所述第一位置处于所述局部冲程位置作出响应，基于配置信息计算目标输出压力；以及 压力控制器专用集成电路ASIC，其用于确定所述目标输出压力是否等于反馈压力，所述反馈压力对应于从所述过程控制装置输出的输出压力，其用于计算所述目标输出压力与所述反馈压力之间的差异以及其用于通过所述差异改变所述输出压力。
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