[实用新型]过程控制系统有效

专利信息
申请号: 201320782559.5 申请日: 2013-10-08
公开(公告)号: CN203909605U 公开(公告)日: 2014-10-29
发明(设计)人: S·F·阿米尔撒萨迈;J·L·斯诺巴杰 申请(专利权)人: 费希尔控制国际公司
主分类号: G05B23/02 分类号: G05B23/02
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 郑立柱
地址: 美国爱*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 过程 控制系统
【说明书】:

技术领域

实用新型总体上涉及过程控制系统,更特别地,涉及用于过程装置校准的设备。 

背景技术

过程例如举例来说,工业过程通常由各种各样的过程控制装置如致动器和气动阀进行控制。在操作期间,连接到这些过程控制装置的仪器需要校准和/或再校准。例如,当安装新的阀定位器时,校准与该阀一起使用的定位器,以保证阀的准确操作。在某些情况下,校准阀定位器需要将与定位器可操作连接的阀从一个末端位置(例如,完全关闭的位置)冲程到另一个末端位置(例如,完全打开的位置)。为了正确地校准定位器,需要脱机取下该阀。然而,这总是做不到的,因为一些加工厂是连续运转的,并且/或者阀不包括旁通。在一些已知的系统中,校准定位器需要额外或可选地需要人或用户输入信息。然而,在校准期间,这种用户对定位器的输入会有机会引入误差。 

实用新型内容

本实用新型解决了传统过程装置校准设备在校准过程中需要脱机取阀和用户对定位器引入误差的问题。 

本实用新型公开了一种范例设备包括存储器和连接到包括指令的该存储器的处理器。该范例设备还包括存储器中的指令,以使处理器确定过程控制装置的第一位置是否处于过程控制装置的局部冲程位置,并且响应处于局部冲程位置的第一位置,基于配置信息计算目标输出压力。该范例设备还包括存储器中的指令,以使处理 器确定反馈压力是否等于目标压力,其中反馈压力对应于从过程控制装置输出的输出压力。该范例设备还包括存储器中的指令,以使处理器计算目标输出压力和反馈压力之间的差异,并且通过该差异来改变输出压力。 

根据本实用新型的一个实施例,所述指令进一步使所述设备在调整所述输出压力时监视所述过程控制装置当前位置的变化;响应所述当前位置的所述变化,当控制信号处于利用所述配置信息确定的截止区时,减小控制信号变化的速度;以及当所述控制信号处于所述截止区时,基于所述控制信号变化的所述速度渐进地改变所述当前位置。 

根据本实用新型的另一个实施例,所述指令进一步使所述设备当所述第一位置未处于所述局部冲程位置时,基于所述第一末端位置和所述配置信息来计算所述过程控制装置的第二末端位置;基于所述第一末端位置和第二末端位置计算所述过程控制装置的局部冲程区域;确定当前位置何时处于局部冲程区域内;以及当所述当前位置处于所述局部冲程区域内时,基于指示所述当前位置与对应于控制信号的位置的比较的值来计算输出偏差。 

根据本实用新型的又一个实施例,所述指令进一步使所述设备计算所述当前位置与对应于所述控制信号的位置之间的差异;以及将所述差异增加到计算值,以形成指示使所述当前位置与所述控制信号相关联的调整的值。 

在此描述的范例涉及校准仪器如过程控制装置如阀组件的位置控制器或定位器,所述校准不需要将其中运行有该仪器的过程控制系统脱机取下,或者受到影响,并且不需要用户输入,降低了校准期间由于用户输入引入误差的机会。 

附图说明

图1表示一种范例过程控制系统,其中可以实施本实用新型公开的教导。 

图2是图1仪器的一种范例实施方式的方块图。 

图3是图2的局部冲程校准器的一种范例实施方式的方块图。 

图4是表示在本申请中公开的范例方法的流程图。 

图5是表示在本申请中公开的另一个范例方法的流程图。 

图6是一种范例处理平台的方块图,该处理平台能够执行图4和5的范例方法,以实施图1和2的范例仪器。 

具体实施方式

在上面确定的附图中表示的一些范例将在下面详细地描述。在描述的这些范例中,相似或相同的附图标记用于识别相同或相似的元件。这些附图不必是按比例的,并且,为了清楚和/或简明,这些附图的某些特征和某些视图可能会按比例或示意地放大表示。另外,贯穿本说明书描述了几个范例。任何范例中的任何特征可以包含有或替换其他范例中的其他特征,或者与其他范例中的其他特征相结合。 

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