[实用新型]用于密封涡轮机中的气体路径的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201320774525.1 申请日: 2013-11-29
公开(公告)号: CN203685304U 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: D.W.韦伯;K.R.柯特利;V.J.摩根;N.N.萨拉瓦特 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: F01D11/00 分类号: F01D11/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 肖日松;严志军
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 实用新型提供一种用于放置在位于燃气涡轮机的两个涡轮机部件之间的槽中以密封所述部件之间的间隙的密封件,该密封件包括密封元件,该密封元件的尺寸能够被放置在槽内并且在燃气涡轮机操作期间基本密封间隙。牺牲涂层可以定位在密封元件上。该牺牲涂层的尺寸可以被构造成基本符合槽的尺寸,该牺牲涂层包括能够通过加热至在燃气涡轮机操作期间达到的温度来从密封元件去除的材料。还公开的相关的燃气涡轮机组件和组装方法。
搜索关键词: 用于 密封 涡轮机 中的 气体 路径 系统 方法
【主权项】:
一种用于放置在位于燃气涡轮机的两个涡轮机部件之间的槽中以密封所述部件之间的间隙的密封件,所述密封件包括:密封元件,所述密封元件的尺寸能够被放置在所述槽内并且在所述燃气涡轮机操作期间基本密封所述间隙;以及牺牲涂层,所述牺牲涂层位于所述密封元件上,所述牺牲涂层的尺寸被构造成基本符合所述槽的尺寸,所述牺牲涂层包括能够通过加热至在所述燃气涡轮机操作期间达到的温度来从所述密封元件去除的材料。
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