[实用新型]用于密封涡轮机中的气体路径的系统和方法有效

专利信息
申请号: 201320774525.1 申请日: 2013-11-29
公开(公告)号: CN203685304U 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: D.W.韦伯;K.R.柯特利;V.J.摩根;N.N.萨拉瓦特 申请(专利权)人: 通用电气公司
主分类号: F01D11/00 分类号: F01D11/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 肖日松;严志军
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
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摘要:
搜索关键词: 用于 密封 涡轮机 中的 气体 路径 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于放置在位于燃气涡轮机的两个涡轮机部件之间的槽中以密封所述部件之间的间隙的密封件,所述密封件包括:

密封元件,所述密封元件的尺寸能够被放置在所述槽内并且在所述燃气涡轮机操作期间基本密封所述间隙;以及

牺牲涂层,所述牺牲涂层位于所述密封元件上,所述牺牲涂层的尺寸被构造成基本符合所述槽的尺寸,所述牺牲涂层包括能够通过加热至在所述燃气涡轮机操作期间达到的温度来从所述密封元件去除的材料。

2.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述密封元件是薄金属垫片元件。

3.根据权利要求2所述的密封件,其特征在于,所述密封元件包括镍基合金。

4.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述密封元件具有从大约5至大约50密耳的厚度。

5.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述牺牲涂层包括聚合物。

6.根据权利要求5所述的密封件,其特征在于,所述聚合物掺杂有增强材料。

7.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述牺牲涂层的厚度基本大于所述密封元件的厚度。

8.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述牺牲涂层基本包绕所述密封元件。

9.根据权利要求1所述的密封件,其特征在于,所述牺牲涂层具有基本矩形的外表面。

10.根据权利要求9所述的密封件,其特征在于,所述牺牲涂层的外表面具有被构造成有助于所述密封件在所述槽中对准的倒角。

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