[实用新型]一种脱胶前单晶硅片的清洗装置有效
申请号: | 201320723382.1 | 申请日: | 2013-11-13 |
公开(公告)号: | CN203648897U | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 陈吉祥;李竞宇;张建国 | 申请(专利权)人: | 龙岩市华德光电有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 364101 福建省龙岩*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 本实用新型提供了一种脱胶前单晶硅片的清洗装置,包括盛水槽、清洗支架和两根清洗水管,所述的清洗支架固定在盛水槽内,所述的清洗支架为长方体形,所述两根清洗水管分别设置在清洗支架的左右两侧,每根所述的清洗水管连接有一个水阀,所述水阀用于与供水管连接,每根所述的清洗水管相对于另一根清洗水管一侧的管壁上等距设置有多个出水孔。本实用新型实现对单晶硅片的自动,均匀地清洗,解决现有单晶硅片清洗效果差的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 脱胶 单晶硅 清洗 装置 | ||
【主权项】:
一种脱胶前单晶硅片的清洗装置,其特征在于:包括盛水槽、清洗支架和两根清洗水管,所述的清洗支架固定在盛水槽内,所述的清洗支架为长方体形,所述两根清洗水管分别设置在清洗支架的左右两侧,每根所述的清洗水管连接有一个水阀,所述水阀用于与供水管连接,每根所述的清洗水管相对于另一根清洗水管一侧的管壁上等距设置有多个出水孔。
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