[实用新型]一种脱胶前单晶硅片的清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及单晶硅片加工领域，特别指一种脱胶前单晶硅片的清洗装置。

背景技术

现有的单晶硅棒在切割成单晶硅片后，在脱胶前要对单晶硅片进行清洗。传统的清洗方式都是直接用软管进行冲洗，这样会造成冲洗不均匀，冲洗效果差，同时要有工人一直在那操作，人工成本高。

发明内容

本实用新型要解决的技术问题，在于提供一种脱胶前单晶硅片的清洗装置，解决现有单晶硅片冲洗效果差，人工成本高的问题。

本实用新型是这样实现的：

一种脱胶前单晶硅片的清洗装置，包括盛水槽、清洗支架和两根清洗水管，所述的清洗支架固定在盛水槽内，所述的清洗支架为长方体形，所述两根清洗水管分别设置在清洗支架的左右两侧，每根所述的清洗水管连接有一个水阀，所述水阀用于与供水管连接，每根所述的清洗水管相对于另一根清洗水管一侧的管壁上等距设置有多个出水孔。

进一步地，每根所述的清洗水管上的出水孔处在同一直线上。

进一步地，所述的清洗水管为PVC管。

本实用新型的优点在于：简单方便地实现了对单晶硅片的全面清洗，清洗效果好，而且不用人工，避免了高昂的人工成本。

附图说明

下面参照附图结合实施例对本实用新型作进一步的说明。

图1是本实用新型的结构示意图。

图2是本实用新型清洗水管的结构示意图。

具体实施方式

请参阅图1和图2所示，以下将对本实用新型进行详细说明。

如图1所示，一种脱胶前单晶硅片的清洗装置，包括盛水槽1、清洗支架2和两根清洗水管3，清洗支架2固定在盛水槽1内，盛水槽1底部具有一个排水孔，用于排出盛水槽1内的水。清洗支架2为长方体形，两根清洗水管3分别设置在清洗支架2的左右两侧，两根清洗水管3的位置低于清洗支架2最上面左右两侧的支架柱。每根清洗水管3连接有一个水阀4，水阀4用于与供水管连接，每根清洗水管3相对于另一根清洗水管3一侧的管壁上等距设置有多个出水孔（图1中未示出）。本实用新型用于清洗切割后脱胶前的单晶硅片5。如图1所示，切割后脱胶前的单晶硅片5通过晶托6固定在底座7上面。本实用新型设计时，清洗支架2最上面左右两侧的两根支架柱的间距略小于底座7的宽度。清洗时，将底座7倒扣在清洗支架2上，而后打开水阀4，则水从出水孔中冲向单晶硅片5，从而对单晶硅片5进行了冲洗。通过调节水阀4，可实现对冲洗力度的控制。清洗时，工人可进行其他的生产劳动，大大减少了人工时间。

为了使得冲洗更加均匀，优选地，如图2所示，每根清洗水管3上的出水孔30处在同一直线上。

清洗水管3可以是常用的钢管、PPR管或PVC管，优选地，清洗水管3为PVC管。PVC管具有连接方便的优点。

以上所述实施方式，只是本实用新型的较佳实施方式，并非来限制本实用新型实施范围，故凡依本实用新型申请专利范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均应包括本实用新型专利申请范围内。