[实用新型]一种SiO2钝化层的液相沉积装置有效
申请号: | 201320691634.7 | 申请日: | 2013-11-05 |
公开(公告)号: | CN203593809U | 公开(公告)日: | 2014-05-14 |
发明(设计)人: | 邹帅;王栩生;章灵军 | 申请(专利权)人: | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 |
主分类号: | C30B19/00 | 分类号: | C30B19/00;C30B29/18 |
代理公司: | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人: | 陶海锋;陆金星 |
地址: | 215129 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种SiO2钝化层的液相沉积装置,包括机架、物料运转系统和液相沉积系统;所述物料运转系统依次包括上料传送槽、酸洗槽、第一水洗槽、第二水洗槽、溢流清洗槽、喷淋槽和下料传送槽,相邻槽体之间相互连接;所述液相沉积系统从上到下依次包括饱和反应装置、过滤装置、过饱和反应装置和生长装置;相邻装置之间均通过阀门相连接;所述上料传送槽、酸洗槽、第一水洗槽、生长装置、第二水洗槽、溢流清洗槽、喷淋槽和下料传送槽依次设于机架上,构成流水线结构;机架上设有转移部件。采用本实用新型的装置沉积SiO2钝化层工艺简单,效率高,成本低,沉积形成的SiO2钝化层结构致密,具有良好的钝化效果。 | ||
搜索关键词: | 一种 sio sub 钝化 沉积 装置 | ||
【主权项】:
一种SiO2钝化层的液相沉积装置,其特征在于:包括机架(9)、物料运转系统和液相沉积系统(4);所述物料运转系统依次包括上料传送槽(1)、酸洗槽(2)、第一水洗槽(3)、第二水洗槽(5)、溢流清洗槽(6)、喷淋槽(7)和下料传送槽(8),相邻槽体之间相互连接;所述液相沉积系统从上到下依次包括饱和反应装置(40)、过滤装置(41)、过饱和反应装置(42)和生长装置(43);相邻装置之间均通过阀门相连接;所述饱和反应装置(40)包括混合槽(401)和2个原材料供给槽(402),所述混合槽(401)内设有搅拌系统(403);混合槽(401)的上部与所述原材料供给槽(402)相连通,其底部通过阀门(12)与过滤装置(41)相连通;所述过滤装置(41)包括负压槽(412)和负压系统(413),负压槽(412)内设有过滤网膜(411),负压槽(412)一端通过阀门(12)连通混合槽(401),另一端通过阀门连通所述过饱和反应装置(42);所述过饱和反应装置(42)包括过饱和反应槽(421)和2个原材料供给槽(422);过饱和反应槽(421)的一端通过阀门连通所述负压槽(412),另一端通过阀门(12)连通所述生长装置(43);所述生长装置(43)包括水浴加热槽(432),以及设于水浴加热槽内的沉积槽(431);所述沉积槽通过阀门与反应槽(421)相连通;所述上料传送槽(1)、酸洗槽(2)、第一水洗槽(3)、生长装置(43)、第二水洗槽(5)、溢流清洗槽(6)、喷淋槽(7)和下料传送槽(8)依次设于机架上,构成流水线结构;机架上设有转移部件。
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