[实用新型]清洗设备有效
| 申请号： | 201320456652.7 | 申请日： | 2013-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN203426124U | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 董飏;荣楠;廖勇 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | B08B13/00 | 分类号： | B08B13/00;B08B3/02;B08B3/08;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提出一种清洗设备，包括：清洗单元、与清洗单元均连接的第一排液单元和第二排液单元；与第一排液单元连接的排气液槽；排气液槽侧壁设有排气管，排气管中设有风机；第二排液单元包括第二漏壶以及第二排液管，第二排液管与第二漏壶之间设有第一阀门；第二排液单元与清洗单元之间设有第二阀门；将第一排液单元与排气液槽连接，由于排液气槽的排液和排气能力较强，从而使酸液挥发的气体从排液气槽流出，能够避免酸液挥发的气体形成结晶，在排气管中设有风机，风机能够帮助气体更快的排出；在第二排液管上设有第一阀门和第二阀门，能够在不使用的情况下关闭阀门，避免酸液挥发并产生结晶。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗 设备 | ||
【主权项】：
一种清洗设备，用于清洗半导体晶圆，其特征在于，包括：清洗单元、第一排液单元、第二排液单元以及排气液槽；所述第一排液单元和第二排液单元均与所述清洗单元连接；所述第一排液单元与所述排气液槽连接；所述排气液槽设置于所述清洗单元的底部；所述排气液槽侧壁设有排气管，所述排气管中设有风机；所述第二排液单元包括第二漏壶以及第二排液管，所述第二排液管与所述第二漏壶相连，两者之间设有第一阀门；所述第二排液单元与所述清洗单元之间通过所述第二排液管相连并设有第二阀门。
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