[实用新型]还原炉喷嘴装置有效
| 申请号： | 201320403868.7 | 申请日： | 2013-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN203411333U | 公开（公告）日： | 2014-01-29 |
| 发明（设计）人： | 韦武杰;史超;薛涛 | 申请（专利权）人： | 陕西天宏硅材料有限责任公司 |
| 主分类号： | C01B33/027 | 分类号： | C01B33/027 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 712038 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种还原炉喷嘴装置，它为一个整体，喷嘴的顶部为锥形，在喷嘴的上部开有主孔，在喷嘴的侧面开有斜孔，斜孔与水平方向成一定角度，斜孔的中心在同一个圆周上，斜孔的孔数为3个，每个孔间按120°间距均匀分布，喷嘴的底部为螺纹结构。喷嘴顶部锥形增加喷射阻力使进料混合气向侧孔喷射。主孔(2)为直口，气速最大，向炉顶喷射物料。侧孔(3)降低主孔喷射压力减少主孔气流对硅棒的冲击力，侧孔按120°方向均匀分布，朝向分别指对硅棒之间的空隙，不直接冲击硅棒，同时侧孔倾斜一定角度可增加硅棒中部和底部的气流浓度分布，使炉内气体浓度长更均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 还原 喷嘴 装置 | ||
【主权项】：
一种还原炉喷嘴装置，它为一个整体，其特征在于：喷嘴(1)的顶部为锥形，在喷嘴(1)的上部开有主孔(2)，在喷嘴(1)的侧面开有斜孔(3)，斜孔(3)与水平方向成一定角度，斜孔(3)的中心在同一个圆周上，斜孔(3)的孔数为3个，每个孔间按120°间距均匀分布，喷嘴(1)的底部为螺纹(4)结构。
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