[实用新型]一种多自由度数控冶金射流直接成形设备有效
申请号: | 201320362498.7 | 申请日: | 2013-06-24 |
公开(公告)号: | CN203373414U | 公开(公告)日: | 2014-01-01 |
发明(设计)人: | 王继杰;刘春忠;马宗义;张洪亮;王老乌;卢少微;刘玉林;姜妲;王艳晶;杨光;陈振中 | 申请(专利权)人: | 沈阳航空航天大学 |
主分类号: | C23C4/06 | 分类号: | C23C4/06;C23C4/12 |
代理公司: | 沈阳维特专利商标事务所(普通合伙) 21229 | 代理人: | 甄玉荃 |
地址: | 110136 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种多自由度数控冶金射流直接成形设备,包括炉体基座、真空双层炉体、炉门、真空计、惰性气体强制冷却装置、坩埚升降及射流惰性气体加压装置、惰性气体进气阀、大气交换阀、沉积基板运动控制器、数控编程计算机、真空泵、熔炼电源、惰性气体瓶、运动机构支架、水平旋转基座、水平面旋转滑轨、水平二维横向运动机构、水平二维纵向运动机构、垂直一维运动机构、冶金射流沉积基板、弯曲沉积工件倾转夹具、熔炼加热装置、熔炼坩埚、送料机构、测温热电偶、红外测温装置、沉积基板倾转机构、基板循环冷却水管道和冷却水系统。本实用新型可以控制凝固速度及金属液横向铺展宽度,获得复合设计要求厚度的任意复杂形状的金属零件。 | ||
搜索关键词: | 一种 自由度 数控 冶金 射流 直接 成形 设备 | ||
【主权项】:
一种多自由度数控冶金射流直接成形设备,其特征在于:包括炉体基座、真空双层炉体、真空计、惰性气体强制冷却装置、坩埚升降及射流惰性气体加压装置、惰性气体进气阀、大气交换阀、沉积基板运动控制器、数控编程计算机、真空泵、熔炼电源、惰性气体瓶、运动机构支架、水平旋转基座、水平面旋转滑轨、水平二维横向运动机构、水平二维纵向运动机构、垂直一维运动机构、冶金射流沉积基板、弯曲沉积工件倾转夹具、熔炼加热装置、熔炼坩埚、送料机构、测温热电偶、红外测温装置、沉积基板倾转机构基板循环冷却水管道和冷却水系统;真空双层炉体固定在炉体基座上,真空计、惰性气体强制冷却装置固定在真空双层炉体上,惰性气体进气阀、大气交换阀设置在真空双层炉体的炉壁上,真空泵对真空双层炉体抽真空,运动机构支架、水平旋转基座、水平面旋转滑轨、水平二维横向运动机构、水平二维纵向运动机构、垂直一维运动机构、冶金射流沉积基板、弯曲沉积工件倾转夹具、熔炼加热装置、熔炼坩埚、送料机构、测温热电偶、红外测温装置和沉积基板倾转机构都处于真空双层炉体内,坩埚升降及射流惰性气体加压装置穿过真空双层炉体并与熔炼坩埚连接,惰性气体瓶与惰性气体强制冷却装置和坩埚升降及射流惰性气体加压装置连接,熔炼坩埚处于冶金射流沉积基板的上方,冶金射流沉积基板上设有弯曲沉积工件倾转夹具,沉积基板倾转机构和垂直一维运动机构固定在冶金射流沉积基板的下端,水平二维纵向运动机构固定在垂直一维运动机构的下端,水平二维纵向运动机构固定在水平二维横向运动机构上,运动机构支架固定在 真空双层炉体的内壁上,水平旋转基座为空心结构并固定在运动机构支架上,水平二维横向运动机构通过水平面旋转滑轨固定在水平旋转基座上,沉积基板运动控制器与运动机构支架、水平旋转基座、水平面旋转滑轨、水平二维横向运动机构、水平二维纵向运动机构、垂直一维运动机构、冶金射流沉积基板连接,数控编程计算机与沉积基板运动控制器连接,熔炼电源与熔炼加热装置连接,熔炼加热装置固定在熔炼坩埚外,送料机构设置在熔炼坩埚的上端,测温热电偶插入到熔炼坩埚内,红外测温装置设置在冶金射流沉积基板的上方,熔炼坩埚的底部开有射流孔,冶金射流沉积基板通过基板循环冷却水管道与冷却水系统连接,真空双层炉体也与冷却水系统相连通。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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