[实用新型]基于介电泳效应的抛光设备有效
| 申请号： | 201320302214.5 | 申请日： | 2013-05-29 |
| 公开（公告）号： | CN203282283U | 公开（公告）日： | 2013-11-13 |
| 发明（设计）人： | 邓乾发;周芬芬;吕冰海;袁巨龙;郭伟刚;郁炜;赵萍;厉淦;赵天晨 | 申请（专利权）人： | 浙江工业大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 杭州天正专利事务所有限公司 33201 | 代理人： | 王兵;黄美娟 |
| 地址： | 310014 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 基于介电泳效应的抛光设备，包括带有上抛光盘、下抛光盘和工件夹具的抛光机本体，所述的工件夹具位于所述的上抛光盘与所述的下抛光盘之间的抛光加工区域，所述的上抛光盘和所述的下抛光盘上分别加装电极，每个所述的电极面向抛光加工区域的表面设置绝缘板，且所述的绝缘板表面粘贴抛光垫；所述的上抛光盘上设置抛光液注入口；所述的上抛光盘的电极和所述的下抛光盘的电极分别与交流电源连接，所述的交流电源的电流输入端与调频调压控制器连接，控制交流电源的电压与频率。本实用新型的有益效果是：减缓离心力对抛光液及磨粒的甩出，延长抛光液和磨粒的驻留时间，工件平面度更高。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 电泳 效应 抛光 设备 | ||
【主权项】：
基于介电泳效应的抛光设备，包括带有上抛光盘、下抛光盘和工件夹具的抛光机本体，所述的工件夹具位于所述的上抛光盘与所述的下抛光盘之间的抛光加工区域，其特征在于：所述的上抛光盘和所述的下抛光盘上分别加装电极，每个所述的电极面向抛光加工区域的表面设置绝缘板，且所述的绝缘板表面粘贴抛光垫；所述的上抛光盘上设置抛光液注入口；所述的上抛光盘的电极和所述的下抛光盘的电极分别与交流电源连接，所述的交流电源的电流输入端与调频调压控制器连接，控制交流电源的电压与频率。
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