[实用新型]溅射镀膜装置有效
| 申请号： | 201320159170.5 | 申请日： | 2013-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN203284455U | 公开（公告）日： | 2013-11-13 |
| 发明（设计）人： | 陈罡;闫志博 | 申请（专利权）人： | 烟台金瑞石英晶体有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人： | 郑自群 |
| 地址： | 264000 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型提出了一种溅射镀膜装置，包括：真空室，真空室底部敞口设置；底板，底板设于真空室底部敞口下方，且底板形状与真空室底部敞口形状相适应；夹具旋转机构，夹具旋转机构的转轴竖直贯穿底板中央，转轴的底部和顶部分别连接有动力装置和支撑盘，支撑盘水平设置且边缘竖直设有至少一个夹具支撑架，夹具支撑架上固定有被镀工件夹具；至少一个靶体，靶体与夹具支撑架平行设置，靶体内腔装有磁铁，靶体面对夹具支撑架的一侧设有靶材；水冷装置，水冷装置通过管道与靶体一端连通。本实用新型涉及镀膜技术领域，解决了现有技术中镀膜材料一次性利用率低、镀膜牢固度不佳、镀膜时间长、被镀元件受力不均匀、镀膜沉积均匀性不佳的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 镀膜 装置 | ||
【主权项】：
溅射镀膜装置，其特征在于，包括： 真空室，所述真空室底部敞口设置； 底板，所述底板设于所述真空室底部敞口下方，且所述底板形状与所述真空室底部敞口形状相适应； 夹具旋转机构，所述夹具旋转机构的转轴竖直贯穿所述底板中央，所述转轴的底部和顶部分别连接有动力装置和支撑盘，所述支撑盘水平设置且边缘竖直设有至少一个夹具支撑架，所述夹具支撑架上固定有被镀工件夹具； 至少一个靶体，所述靶体与所述夹具支撑架平行设置，所述靶体内腔装有磁铁，所述靶体面对所述夹具支撑架的一侧设有靶材； 水冷装置，所述水冷装置通过管道与所述靶体一端连通。
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