[实用新型]采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源的清洗箱有效
申请号: | 201320139128.7 | 申请日: | 2013-03-25 |
公开(公告)号: | CN203281553U | 公开(公告)日: | 2013-11-13 |
发明(设计)人: | 钟伟杰;赵健;夏忠平 | 申请(专利权)人: | 上海显恒光电科技股份有限公司 |
主分类号: | B08B7/00 | 分类号: | B08B7/00;H01K7/00 |
代理公司: | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人: | 何新平 |
地址: | 201210 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本实用新型涉及紫外超精密清洗领域。采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源的清洗箱,包括紫外清洗箱主体,紫外清洗箱主体包括箱壁,箱壁围成一清洗腔,清洗腔内设有清洗执行系统,清洗执行系统连接一紫外光源,以及一控制系统,紫外光源采用一场发射阵列激发的平板紫外辐射光源,光源位于清洗腔内;光源包括一阳极板,阳极板上设有一紫外荧光粉层;光源还包括一场发射阴极阵列,场发射阴极阵列朝向阳极板。由于场发射阵列激发的平板紫外辐射光源采用的是场发射阴极阵列,故光源整体呈板状,可以直接作为箱盖使用,增加了清洗腔的容积,而且板状的光源均匀照射清洗腔,可以减少管状光源造成的遮挡问题,提高清洗效果。 | ||
搜索关键词: | 用场 发射 阵列 激发 平板 紫外 辐射 光源 清洗 | ||
【主权项】:
采用场发射阵列激发的平板紫外辐射光源的清洗箱,包括紫外清洗箱主体,所述紫外清洗箱主体包括箱壁,所述箱壁围成一清洗腔,所述清洗腔内设有清洗执行系统,所述清洗执行系统连接一紫外光源,以及一控制系统,其特征在于: 所述紫外光源采用一场发射阵列激发的平板紫外辐射光源,所述场发射阵列激发的平板紫外辐射光源位于所述清洗腔内; 所述光源包括一阳极板,所述阳极板上设有一紫外荧光粉层; 所述光源还包括一场发射阴极阵列,所述场发射阴极阵列朝向所述阳极板。
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