[实用新型]曝光装置有效
申请号: | 201320112359.9 | 申请日: | 2013-03-12 |
公开(公告)号: | CN203232245U | 公开(公告)日: | 2013-10-09 |
发明(设计)人: | 坂田勇 | 申请(专利权)人: | 兄弟工业株式会社 |
主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04;G03G21/16 |
代理公司: | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人: | 梅高强;刘煜 |
地址: | 日本国爱知县名*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种曝光装置,具有:光源;扫描单元;外壳,具有收容空间;开闭器,其可以摆动地设置在外壳中,其可在遮断从光源到扫描单元的激光的射出路径的遮断位置和开放射出路径的开放位置之间变位;变位单元,在主体罩子相对于装置主体开放时,使开闭器向遮断位置变位,在主体罩子相对于装置主体封闭时,使开闭器向开放位置变位。外壳具有使收容空间和外部连通的开口,开闭器具有:主体部,设置成在外壳的外侧可绕和射出路径垂直相交的摆动轴心摆动;以及遮断部,其与主体部一体地设置且从开口向收容空间内延伸,其在遮断位置遮断射出路径、在开放位置开放射出路径。根据上述曝光装置,可以实现对于图像形成装置的搭载性的提高。 | ||
搜索关键词: | 曝光 装置 | ||
【主权项】:
一种曝光装置(100),其特征在于,所述曝光装置(100)用于图像形成装置(1),该图像形成装置(1)具有装置主体(8)、设置成相对所述装置主体可开闭的主体罩子(7)、以及将调色剂像转印于在所述装置主体内被输送的片材(99)上的感光体(21),所述曝光装置在所述装置主体内将与所述调色剂像对应的潜像形成于所述感光体上,所述曝光装置(100)具有:光源(103),该光源射出激光;扫描单元(105),该扫描单元使所述激光相对于所述感光体进行光学扫描;外壳(101),该外壳具有收纳所述光源以及所述扫描单元的收容空间(101A);开闭器(130),该开闭器可以摆动地设置在所述外壳中,该开闭器可在遮断从所述光源到所述扫描单元的所述激光的射出路径(R1)的遮断位置和开放所述射出路径的开放位置之间变位;以及变位单元(140),该变位单元在所述主体罩子相对于所述装置主体开放时,使所述开闭器向所述遮断位置变位,在所述主体罩子相对于所述装置主体封闭时,使所述开闭器向所述开放位置变位,所述曝光装置(100)中,所述外壳具有使所述收容空间和外部连通的开口(122),所述开闭器具有:主体部(131),该主体部设置成在所述外壳的外侧可绕和所述射出路径垂直相交的摆动轴心(X1)摆动;以及遮断部(133),该遮断部与所述主体部一体地设置且从所述开口向所述收容空间内延伸,该遮断部在所述遮断位置遮断所述射出路径、在所述开放位置开放所述射出路径。
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