[实用新型]曝光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种曝光装置。

背景技术

已知有一种图像形成装置中使用的曝光装置。该曝光装置具有可以在遮断激光的射出路径的遮断位置和开放射出路径的开放位置之间摆动的开闭器。由于为了收纳摆动的开闭器，需要在曝光装置内确保较大的空间，因此，存在外壳的小型化较难，相对于图像形成装置的搭载性容易下降的问题。

实用新型内容

因此本实用新型的目的在于，提供一种可以实现相对于图像形成装置的搭载性提高的曝光装置。

本实用新型提供一种曝光装置100，所述曝光装置100用于图像形成装置1，该图像形成装置1具有装置主体8、设置成相对所述装置主体可开闭的主体罩子7、以及将调色剂像转印于在所述装置主体内被输送的片材99上的感光体21，所述曝光装置在所述装置主体内将与所述调色剂像对应的潜像形成于所述感光体上。所述曝光装置100具有：光源103，该光源射出激光；扫描单元105，该扫描单元使所述激光相对于所述感光体进行光学扫描；外壳101，该外壳具有收纳所述光源以及所述扫描单元的收容空间101A；开闭器130，该开闭器可以摆动地设置在所述外壳中，该开闭器可在遮断从所述光源到所述扫描单元的所述激光的射出路径R1的遮断位置和开放所述射出路径的开放位置之间变位；以及变位单元140，该变位单元在所述主体罩子相对于所述装置主体开放时，使所述开闭器向所述遮断位置变位，在所述主体罩子相对于所述装置主体封闭时，使所述开闭器向所述开放位置变位。所述曝光装置100中，所述外壳具有使所述收容空间和外部连通的开口122，所述开闭器具有：主体部131，该主体部设置成在所述外壳的外侧可绕和所述射出路径垂直相交的摆动轴心X1摆动；以及遮断部133，该遮断部与所述主体部一体地设置且从所述开口向所述收容空间内延伸，该遮断部在所述遮断位置遮断所述射出路径、在所述开放位置开放所述射出路径。

可选地，上述曝光装置中，所述遮断部形成为以所述摆动轴心为中心的圆弧状。

可选地，上述曝光装置中，所述开闭器具有一体设置在所述主体部、相对于所述摆动轴心位于所述遮断部的相反侧的被传递部135，所述变位单元具有：导向部115F、115R、125F、125R，该导向部形成于所述外壳，且在所述主体罩子离开所述装置主体的方向上延伸；以及传递部145，该传递部由所述导向部导向，该传递部与相对于所述装置主体封闭的所述主体罩子抵接而使所述被传递部变位。

可选地，上述曝光装置中，所述主体罩子绕和所述摆动轴心垂直相交的开闭轴心X2可摆动地支撑于所述装置主体。

可选地，上述曝光装置中，在所述主体部形成有构成所述摆动轴心的轴部137，所述外壳具有：保持所述光源以及所述扫描单元的框架110；以及形成有所述开口、通过组装在所述框架上而在与所述框架之间形成所述收容空间的盖部120，所述盖部设置有位于所述外壳的外侧、可摆动地支撑所述轴部的第1轴承127F、127R，所述第1轴承随着贯通所述盖部的孔129一体地形成在所述盖部，所述孔形成于在所述盖部组装在所述框架上的状态下与所述收容空间不重叠的位置。

可选地，上述曝光装置中，在所述主体部形成有构成所述摆动轴心的轴部137，所述外壳具有：保持所述光源以及所述扫描单元的框架110；以及形成有所述开口、通过组装在所述框架上而在与所述框架之间形成所述收容空间的盖部120，所述框架设置有位于所述外壳的外侧、可摆动地支撑所述轴部的第2轴承117F、117R。

可选地，上述曝光装置中，所述主体部比所述开口大。

可选地，上述曝光装置中，在所述遮断部设置有在所述开放位置从所述收容空间侧堵塞所述开口的密封部133A。

可选地，上述曝光装置中，所述装置主体内设置有在所述外壳的外侧环绕的线束W1、W2，所述外壳具有延伸成大致平板状、设置有所述开口且支撑所述主体部的平板部123，所述线束沿着所述平板部且与所述射出路径平行地延伸。

可选地，上述曝光装置中，所述平板部设置有在所述线束和所述开闭器之间突出、与所述射出路径大致平行地延伸的分隔壁128。

实用新型效果：

根据上述曝光装置，可以实现相对于图像形成装置的搭载性的提高。

附图说明

图1是实施例1中曝光装置所搭载的图像形成装置的示意截面图。

图2是所述图像形成装置的立体图。

图3涉及上述图像形成装置，其是表示主体罩子相对装置主体开放的状态的示意截面图。

图4是实施例1的曝光装置的分解立体图。

图5涉及实施例1的曝光装置，其是表示位于开放位置的开闭器等的立体图。