[实用新型]一种光刻胶回收装置和涂布机有效
| 申请号： | 201320103774.8 | 申请日： | 2013-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN203091218U | 公开（公告）日： | 2013-07-31 |
| 发明（设计）人： | 李伟;刘富军;魏崇喜;朱杰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | B05C11/10 | 分类号： | B05C11/10 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;安利霞 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光刻胶回收装置和涂布机，所述光刻胶回收装置包括：第一容器，用于与光刻胶的出胶口形成密闭空间，以接收光刻胶；漏气检测单元，用于检测所述第一容器的密闭性。所述涂布机具有所述的光刻胶回收装置。本实用新型的光刻胶回收装置的第一容器与光刻胶的出胶口形成密闭空间，使得光刻胶可以在不被污染的情况下进行回收，防止了光刻胶的凝结，可以应用到涂布机上进行光刻胶的回收。而且，该装置还利用漏气检测单元来检测第一容器的密闭性，以保证第一容器的密闭性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 回收 装置 涂布机 | ||
【主权项】：
一种光刻胶回收装置，其特征在于，包括：第一容器，用于与光刻胶的出胶口形成密闭空间，以接收光刻胶；漏气检测单元，用于检测所述第一容器的密闭性。
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