[实用新型]一种光刻胶回收装置和涂布机

说明书

本实用新型涉及光刻胶回收领域，特别是涉及一种光刻胶回收装置和涂布机。

狭缝式涂布机是大尺寸TFT‑LCD生产中的关键设备，为保证涂布效果，在每次涂布前都会从涂布头吐出一定量的光刻胶使涂布头初始化，而这些吐出的光刻胶都是作为废液处理的，会造成很大的材料浪费和废液处理成本。

而且，在涂布设备的PM（Priliminary Maintenance，预维护）和清洗管路时也都会从狭缝式涂布头吐出大量的光刻胶。这些吐出的光刻胶没有用于生产而是作为废液排掉，这不仅会浪费大量昂贵的光刻胶还会带来处理废液的高成本。当光刻胶废液在设备中不断的积累凝结时，影响到设备的工作效率，需要人力进行清洁，从而降低了设备的稼动率。

本实用新型的目的是提供一种回收光刻胶的装置，以达到降低成本和保护环境。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种光刻胶回收装置，包括：

第一容器，用于与光刻胶的出胶口形成密闭空间，以接收光刻胶；

漏气检测单元，用于检测所述第一容器的密闭性。

上述回收装置中，所述第一容器包括槽体和一用于与所述出胶口密闭连接的接口。

上述回收装置中，所述接口为弹性接口。

上述回收装置中，所述漏气检测单元包括气源、气管和压力计，所述气源通过气管与第一容器相通，所述气管上设有压力计。

上述回收装置中，所述气管上还设有用于控制所述气管导通和截止的控制阀。

上述回收装置中，所述装置还包括一密闭的第二容器，所述第二容器通过管路与第一容器相连接，用于接收第一容器中流出的光刻胶。

上述回收装置中，所述第二容器具有一与外界相通的排气口。

上述回收装置中，所述第二容器具有一与外界相通的排气口。

上述回收装置中，所述排气口中设有单向阀。

本实用新型还提供了一种涂布机，包括所述的光刻胶回收装置。

上述涂布机中，所述涂布机还包括一涂布头，所述涂布头上设置有出胶口。

本实用新型的技术方案的有益效果是：本实用新型的光刻胶回收装置的第一容器与光刻胶的出胶口形成密闭空间，使得光刻胶可以在不被污染的情况下进行回收，防止了光刻胶的凝结，可以应用到涂布机上进行光刻胶的回收。而且，该装置还利用漏气检测单元来检测第一容器的密闭性，以保证第一容器的密闭性。

图1为本实用新型第一种实施例的光刻胶回收装置的结构示意图；

图2为本实用新型第二种实施例的光刻胶回收装置的结构示意图；

图3为本实用新型第三种实施例的光刻胶回收装置的结构示意图。

为使本实用新型要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。

如图1所示，为本实用新型第一种实施例的光刻胶回收装置的结构示意图，该光刻胶回收装置包括：

第一容器2，用于与光刻胶的出胶口形成密闭空间，以接收光刻胶；

漏气检测单元3，用于检测所述第一容器的密闭性。

本实用新型的光刻胶回收装置的第一容器与光刻胶的出胶口形成密闭空间，使得光刻胶可以在不被污染的情况下进行回收，防止了光刻胶的凝结。而且，该装置还利用漏气检测单元来检测第一容器的密闭性，以保证第一容器的密闭性。

再次参阅图1，本实用新型的光刻胶回收装置可以用于回收任何从出胶口流出的光刻胶，该实施例的光刻胶回收装置应用到涂布机1上，接收光刻胶的第一容器2为回收槽，回收槽与涂布机1的涂布头11接触连接，并与涂布头11形成密闭空间，以接收涂布头11流下的光刻胶。由于涂布头流出的光刻胶是在密闭环境下进行回收，避免了受空气污染。而且，还利用漏气检测单元来对回收槽的密闭性进行检测，保证了第一容器的密闭性。

再次参阅图1，本实用新型的光刻胶回收装置可以用于回收任何从出胶口流出的光刻胶，该实施例的光刻胶回收装置应用到涂布机1上，接收光刻胶的第一容器2为回收槽，回收槽与涂布机1的涂布头11接触连接，并与涂布头11形成密闭空间，以接收涂布头11流下的光刻胶。由于涂布头流出的光刻胶是在密闭环境下进行回收，避免了受空气污染。而且，还利用漏气检测单元来对回收槽的密闭性进行检测，保证了第一容器的密闭性。