[实用新型]阵列基板及显示装置有效

专利信息
申请号: 201320067813.3 申请日: 2013-02-05
公开(公告)号: CN203178636U 公开(公告)日: 2013-09-04
发明(设计)人: 许宗义 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1343 分类号: G02F1/1343;G02F1/1339;G02F1/136
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 何青瓦
地址: 518000 广东省深圳市光明新区公*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种阵列基板,包括基板、驱动电极、第一电容、源极、漏极和第一介电层,第一电容包括第一电容电极和第二电容电极,源极、漏极、驱动电极和第一电容电极形成于基板上且被第一介电层覆盖,第一介电层包括覆盖第一电容电极的第一区域和覆盖驱动电极、厚度大于第一区域的第二区域,第二区域用于在其上形成玻璃熔胶,第二电容电极形成于第一区域上。通过上述方式,采用本实用新型阵列基板的显示装置能够取得良好的封胶效果。
搜索关键词: 阵列 显示装置
【主权项】:
一种阵列基板,其特征在于,所述阵列基板包括基板、驱动电极、第一电容、源极、漏极和第一介电层,所述第一电容包括第一电容电极和第二电容电极,所述源极、所述漏极、所述驱动电极和所述第一电容电极形成于所述基板上,所述第一介电层覆盖所述源极、所述漏极、所述驱动电极和所述第一电容电极,所述第一介电层包括覆盖所述第一电容电极的第一区域和覆盖所述驱动电极的第二区域,所述第二区域的厚度大于所述第一区域的厚度,所述第二区域用于在其上形成玻璃熔胶,所述第二电容电极形成于所述第一区域上。
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