[实用新型]基于反射式太赫兹光谱第一镜表面杂质分析装置

摘要

本实用新型公开了一种基于反射式太赫兹光谱第一镜表面杂质分析装置，包括：计算机控制系统、波长可调太赫兹波发射模块、太赫兹波接收模块、三维扫描系统、磁约束聚变装置、若干抛面镜。本实用新型利用太赫兹波及光学过程层析成像技术，可以实现无损、原位、在线分析磁约束聚变装置第一镜表面杂质沉积层的成分及结构信息，对监测杂质灰尘分布情况，氘氚燃料滞留等热点问题有着不可比拟的优势。依据本实用新型可以开发出用于监测磁约束聚变装置内第一镜、第一壁表面沉积放电产生的杂质，及滞留的氘氚燃料，在安全检测领域必定有着广阔的应用前景。

主权项

基于反射式太赫兹光谱第一镜表面杂质分析装置，其特征在于，所述基于反射式太赫兹光谱第一镜表面杂质分析装置包括：计算机控制系统（1）、波长可调谐太赫兹波发射模块（2）、太赫兹波接收模块（7）、三维扫描系统（12），磁约束聚变装置（3）、若干抛面镜；所述计算机控制系统（1）通过数据线分别与波长可调谐太赫兹波发射模块（2）、太赫兹波接收模块（7）、三维扫描系统（12）信号连接；所述波长可调谐太赫兹波发射模块（2）、太赫兹波接收模块（7）平行放置，固定支架（6）两端对称设置第一抛面镜（8）和第四抛面镜（11），第一抛面镜（8）和第四抛面镜（11）的反射面分别朝向波长可调谐太赫兹波发射模块（2）的发射端、太赫兹波接收模块（7）的接收端；第二抛面镜（9）设置于第一抛面镜（8）、第一镜（5）之间的反射光路上；第三抛面镜（10）设置于第二抛面镜（9）、第一镜（5）之间的反射光路上；第一镜（5）设置于磁约束聚变装置（3）内部。