[发明专利]柔软可修整的化学机械抛光垫有效
| 申请号： | 201310757251.X | 申请日： | 2013-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN103802018A | 公开（公告）日： | 2014-05-21 |
| 发明（设计）人： | 钱百年;D·B·詹姆斯;J·穆奈恩;叶逢蓟;M·德格鲁特 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/24 | 分类号： | B24B37/24;B24D18/00 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供了用于抛光基材的含有抛光层的化学机械抛光垫，所述基材选自磁性基材、光学基材和半导体基材的至少一种，其中，抛光层包含原材料组分(包括：多官能异氰酸酯和固化剂组合物)的反应产物；其中，固化剂组合物包含胺引发的多元醇固化剂、高分子量的多元醇固化剂和任选的双官能固化剂；其中，所述抛光层的密度大于0.6g/cm3，邵氏D硬度为5-40，断裂伸长率为100-450％，以及，切削速率为25-150μm/hr；以及，其中抛光层具有适于抛光基材的抛光表面。本发明还提供了该化学机械抛光垫的制造和使用方法。 | ||
| 搜索关键词： | 柔软 修整 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种用于抛光基材的化学机械抛光垫，所述基材选自磁性基材、光学基材和半导体基材的至少一种；所述化学机械抛光垫包含抛光层，其中，抛光层包含原材料组分的反应产物，原材料组分包括：多官能异氰酸酯，以及固化剂组合物，包含：至少5wt％胺引发的多元醇固化剂，其中，胺引发的多元醇固化剂每分子至少含有一个氮原子；其中，胺引发的多元醇固化剂平均每分子具有至少三个羟基；25‑95wt％高分子量的多元醇固化剂，其中，高分子量的多元醇固化剂的数均分子量MN为2,500‑100,000；以及，其中，高分子量的多元醇固化剂平均每分子具有3‑10个羟基；以及，0‑70wt％双官能固化剂；其中，所述抛光层的密度大于0.6g/cm3，邵氏D硬度为5‑40，断裂伸长率为100‑450％，以及，切削速率为25‑150μm/hr；以及，其中，抛光层具有适于抛光基材的抛光表面。
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