[发明专利]用于制备用于成像的样本的方法在审
| 申请号： | 201310747134.5 | 申请日： | 2013-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN103913363A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | M.施米特;J.布拉克伍德;S.斯通;S.H.李;R.凯利 | 申请（专利权）人： | FEI公司 |
| 主分类号： | G01N1/32 | 分类号： | G01N1/32 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 谢攀;王忠忠 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于制备用于成像的样本的方法。提供用于以降低或防止人造产物的方式制备用于在带电粒子束系统中观察的样本的方法和装置。仅在最终研磨之前或在其期间，使用带电粒子束沉积将材料沉积在样本上，这导致无人造产物的表面。实施例对于制备用于具有不同硬度的材料层的样本的SEM观察的横断面是有用的。实施例对于制备薄TEM样本是有用的。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 制备 成像 样本 方法 | ||
【主权项】：
一种制备用于分析的样本的方法，所述方法包括：将离子束导向工件以去除材料并使表面暴露，被暴露的表面具有不规则性；将材料沉积在被暴露的表面上，沉积的材料使不规则性平滑；将离子束导向工件以从被暴露的表面去除至少部分沉积的材料和部分材料来产生平滑的表面。
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