[发明专利]聚酰亚胺膜和柔性电路板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201310746617.3 申请日: 2013-12-30
公开(公告)号: CN104744696A 公开(公告)日: 2015-07-01
发明(设计)人: 唐富兰;周维 申请(专利权)人: 比亚迪股份有限公司
主分类号: C08G73/10 分类号: C08G73/10;C08K3/22;C08K3/36;C08K3/34;C08J5/18;C23C18/06;C23C18/31;H05K1/02
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司11283 代理人: 李婉婉,张苗
地址: 518118 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种聚酰亚胺膜,所述聚酰亚胺膜中含有化学镀促进剂,所述化学镀促进剂为TiO、Ni2O3、Co2O3、CuSiO3、NiSiO3、CoSiO3、CuB2O4、NiB2O4、NiC2O4、CoO和CoC2O4中的一种或多种。本发明还提供了该聚酰亚胺膜的制备方法。本发明还提供了一种柔性电路板的制备方法,该方法包括通过激光照射上述聚酰亚胺膜的一面或两面后,将该激光照射后的所述聚酰亚胺膜进行化学镀处理,本发明还提供了该方法制备的柔性电路板。本发明的聚酰亚胺膜性能好,其制备的柔性电路板的方法特别是制备两面电导通的方法简单,且其铜附着力强、耐焊性能好以及表面阻抗、体积阻抗和线间绝缘电阻也优良。
搜索关键词: 聚酰亚胺 柔性 电路板 及其 制备 方法
【主权项】:
一种聚酰亚胺膜,其特征在于,所述聚酰亚胺膜中含有化学镀促进剂,所述化学镀促进剂为TiO、Ni2O3、Co2O3、CuSiO3、NiSiO3、CoSiO3、CuB2O4、NiB2O4、NiC2O4、CoO和CoC2O4中的一种或多种。
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