[发明专利]一种阵列基板及显示装置在审
| 申请号： | 201310745888.7 | 申请日： | 2013-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN103713420A | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | 金起满;柳在健 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 郭润湘 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板及显示装置，由于在存在较大折射率差的衬底基板和第一透明导电氧化物膜层之间新增加一涂层，该涂层的折射率大于衬底基板的折射率，且小于第一透明导电氧化物膜层的折射率，这样能够减弱由于衬底基板和第一透明导电氧化物膜层之间存在的较大的折射率差而引起的多层反射现象，可以提高阵列基板的光透过率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 显示装置 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，包括衬底基板和位于所述衬底基板上的第一透明导电氧化物膜层，其特征在于；在所述衬底基板和所述第一透明导电氧化物膜层之间设置有一涂层，所述涂层的折射率大于所述衬底基板的折射率，且小于所述第一透明导电氧化物膜层的折射率。
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