[发明专利]一种基于纳米梁结构的光机晶体微腔有效
申请号: | 201310743586.6 | 申请日: | 2013-12-30 |
公开(公告)号: | CN103728692A | 公开(公告)日: | 2014-04-16 |
发明(设计)人: | 崔开宇;李永卓;黄翊东;冯雪;刘仿;张巍 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G02B6/122 | 分类号: | G02B6/122;B82Y20/00 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 李迪 |
地址: | 100084 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种基于纳米梁结构的光机晶体微腔,包括:硅衬底,用于承载整个光机晶体微腔;二氧化硅隔离层,用于隔离硅衬底和硅平板;硅平板,位于二氧化硅隔离层之上,硅平板包括依次设置的输入波导区、光机晶体微腔区、输出波导区;输入波导区用于接收光信号并将光信号传输至光机晶体微腔区;光机晶体微腔区,包括硅波导和空气孔阵列,用于局域光子和声子缺陷模式,实现光子和声子的耦合;输出波导区用于输出光信号;顶层二氧化硅层,位于硅平板之上,其与二氧化硅隔离层配合以保护硅平板;空气隔离区,位于光机晶体微腔区的上方和下方,且位于二氧化硅隔离层和顶层二氧化硅层之间。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 纳米 结构 晶体 | ||
【主权项】:
一种基于纳米梁结构的光机晶体微腔,其特征在于,包括:硅衬底、二氧化硅隔离层、硅平板、顶层二氧化硅层和空气隔离区;所述硅衬底,用于承载整个光机晶体微腔结构;所述二氧化硅隔离层,用于隔离所述硅衬底和硅平板;所述硅平板,位于所述二氧化硅隔离层之上,所述硅平板包括依次设置的输入波导区、光机晶体微腔区、输出波导区;所述输入波导区用于接收光信号并将光信号传输至所述光机晶体微腔区;所述光机晶体微腔区,包括硅波导和空气孔阵列,其用于局域光子和声子缺陷模式,实现光子和声子的耦合;所述输出波导区用于输出光信号;所述顶层二氧化硅层,位于所述硅平板之上,其与所述二氧化硅隔离层配合以保护所述硅平板;所述空气隔离区,位于所述光机晶体微腔区的上方和下方,且位于所述二氧化硅隔离层和顶层二氧化硅层之间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于清华大学,未经清华大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201310743586.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。