[发明专利]一种高深宽比垂直玻璃通孔的刻蚀方法

摘要

本发明公开了一种高密度和深宽比垂直玻璃通孔的刻蚀方法，以及包含上述刻蚀方法在内的一种刻蚀石英玻璃的系统。通过在玻璃晶圆工件沉积一层适当厚度的掩膜，然后进行反应离子刻蚀在整个工件区域的掩膜上开出一组通孔，随后沉积一层钝化层，因为玻璃的刻蚀速率远大于对掩膜的刻蚀速率，就能保证玻璃通孔的垂直度。刻蚀熔融石英玻璃的系统除包括反应腔，射频激励，气体交换系统阀门，反应腔真空控制阀门之外，还包含一个加热装置。加热装置位于反应腔内，通过其内置的加热部件和冷却部件，以及一个可以打开或折叠的小支架实现玻璃工件与加热装置的离合，使得玻璃工件可以在短时间内快速升温和降温。

主权项

一种高密度和深宽比垂直玻璃通孔的刻蚀方法，其特征是包括以下步骤：A. 提供一个平板状的玻璃晶圆工件，表面平整，主要成分为二氧化硅；B.在上述玻璃晶圆工件上的至少一个表面上沉积一层掩膜；C.在上述掩膜上整个工件区域内开出一组通孔；D.对上述工件进行反应离子刻蚀，通过掩膜的通孔对玻璃进行刻蚀，玻璃的刻蚀速率远大于对掩膜的刻蚀速率；E.通过气相沉积法在掩膜以及工件表面上沉积一层钝化层；F.在侧壁钝化层形成后，钝化气体换成反应气体，重复步骤D和E，获得高精度垂直通孔，直到通孔深度达到所要求的深度。