[发明专利]一种用于刀具涂层沉积的多功能全自动离子镀膜机及其使用方法有效
申请号: | 201310729628.0 | 申请日: | 2013-12-26 |
公开(公告)号: | CN103695858A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 王启民;王成勇;伍尚华;邹长伟 | 申请(专利权)人: | 广东工业大学 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/46;C23C14/06 |
代理公司: | 广州市南锋专利事务所有限公司 44228 | 代理人: | 刘媖 |
地址: | 510006 广东省广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及薄膜材料技术领域,尤其涉及一种用于刀具涂层沉积的多功能全自动离子镀膜机,包括真空室、双极脉冲磁控溅射靶、矩形的阳极层气体离子源、高功率脉冲磁控溅射源、偏压电源、阴极电弧源、工件架和支座,所述双极脉冲磁控溅射靶、阳极层气体离子源、高功率脉冲磁控溅射源、偏压电源和阴极电弧源分别通过五组单独的开关控制。本发明通过以上结构,不仅可以制备纯金属、合金、反应膜层,还可以制备多元、多层纳米复合涂层,含氧涂层,以满足形状和大小不一的金属切削刀具,达到高速加工的要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 刀具 涂层 沉积 多功能 全自动 离子 镀膜 及其 使用方法 | ||
【主权项】:
一种用于刀具涂层沉积的多功能全自动离子镀膜机,其特征在于:包括真空室、双极脉冲磁控溅射靶、矩形的阳极层气体离子源、高功率脉冲磁控溅射源、偏压电源、阴极电弧源、工件架和支座;所述真空室为密封结构,其上开设有抽气口,所述双极脉冲磁控溅射靶、阳极层气体离子源、高功率脉冲磁控溅射源、阴极电弧源和工件架固定在所述真空室内,所述支座与所述工件架连接;所述工件架为导电材质,与所述旋转支架连接,位于所述双极脉冲磁控溅射靶、阳极层气体离子源、高功率脉冲磁控溅射源和阴极电弧源之间;所述工件架与所述真空室绝缘,所述真空室接地,所述偏压电源的阳极连接真空室,阴极连接所述工件架;所述双极脉冲磁控溅射靶、阳极层气体离子源、高功率脉冲磁控溅射源、偏压电源和阴极电弧源分别通过五组单独的开关控制。
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