[发明专利]一种制备类金刚石膜球墨铸铁活塞环的工艺

摘要

本发明公开了一种一种制备类金刚石膜球墨铸铁活塞环的工艺，其特征在于步骤如下：清洗干燥、工件抛研、预处理、再次清洗干燥、涂层面形核、沉积打底层、沉积DLC工作涂层，采用本发明工艺涂层的类金刚石膜涂层摩擦系数小，附着力强，其摩擦系数极低（0.2以下），因此是改进发动机的燃烧效率、减少尾气排放、提高活塞环的技术性能指标，使之满足国家发动机强制排放标准要求的理想工艺。

主权项

一种制备类金刚石膜球墨铸铁活塞环的工艺，其特征在于步骤如下：第一步：清洗干燥：将工件送入高压喷淋清洗机进行除油、清洗、烘干，温度控制在60‑80℃；第二步：工件预处理喷砂：用金刚石W10微粉喷射活塞环外圆，刻蚀工件表面，使涂层类金刚石膜形成框架基础；第三步：工件预处理抛研：用金刚石W5微粉抛研活塞环外圆，进一步刻蚀工件表面；第四步：将工件放入超声波清洗机中，使用帕卡濑津脱脂剂FC‑4360进行脱脂清洗干燥；第五步：将工件放入另一超声波清洗机中，使用丙酮+无水乙醇，按照重量比3:7配比，再次进行脱脂、去污、清洗、干燥；第六步：将再次清洗干燥后的工件装入高真空多弧靶高离化磁过滤等离子体DLC沉积设备中；第七步：通入Ar至0.5‑1.5Pa，对工件加偏压600‑800V；第八步：通入N和C、H至1‑2Pa,对工件涂层面形核，即：为涂层致密的打底层和工作层编织构架；第九步：通入N和O2，开启弧靶阴极采用99.9%金属Cr靶，沉积氮氧化铬过渡层（打底层）NCr,厚度20‑30μm；第十步：通入N和H、CH4，开启磁过滤弧源，阴极采用99.9%石墨靶，沉积DLC涂层，厚度10‑15μm。