[发明专利]反应腔室及等离子体加工设备

摘要

本发明提供一种反应腔室及等离子体加工设备，该反应腔室包括升降装置和设置在反应腔室内的承载部，承载部用于承载基片，升降装置用于驱动承载部上升或者下降，以带动基片上升或者下降，升降装置驱动承载部升降，以在冷却时带动位于承载部上的待冷却基片位于预设冷却位置，以及在加热时带动位于承载部位上的待加热基片位于预设加热位置。本发明提供的反应腔室，其不仅可以简化反应腔室的结构，从而可以降低生产成本，进而可以提高经济效益；而且可以简化工艺流程，从而可以提高工艺效率，进而可以提高经济效益。

主权项

1.一种反应腔室，包括升降装置和设置在所述反应腔室内的承载部，所述承载部用于承载基片，所述升降装置用于驱动所述承载部上升或者下降，以带动所述基片上升或者下降，其特征在于，所述升降装置驱动所述承载部升降，以在冷却时带动位于所述承载部上的所述待冷却基片位于预设冷却位置，以及在加热时带动位于所述承载部上的所述待加热基片位于预设加热位置，以实现在加热和冷却时分别将待加热基片和待冷却基片放置在相同的承载部上；还包括冷却单元和加热单元，所述冷却单元用于对位于所述预设冷却位置的所述待冷却基片进行冷却，所述加热单元用于对位于所述预设加热位置的所述待加热基片进行加热；所述承载部包括沿所述基片的周向间隔设置的至少三个支撑条，每个所述支撑条的首端相互固定，且对应于所述基片的中心位置设置，每个所述支撑条的尾端沿所述基片的径向朝向所述基片的边缘位置延伸；并且在所述冷却单元的上表面上还设置有与所述支撑条的数量和位置一一对应的凹槽，用以在所述待冷却基片位于所述冷却单元的上表面上时容纳所述支撑条。