[发明专利]一种同时使用两种不同γ源的射线照相检测方法有效
申请号: | 201310676661.1 | 申请日: | 2013-12-11 |
公开(公告)号: | CN103630562A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 魏民;景卫东 | 申请(专利权)人: | 安徽三兴检测有限公司;中国化学工程第三建设有限公司 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04 |
代理公司: | 南京知识律师事务所 32207 | 代理人: | 蒋海军 |
地址: | 232038 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 发明公开了一种同时使用两种不同γ源的射线照相检测方法,属于射线照相检测技术领域。其步骤为:组建射线照相检测系统,所述的射线照相检测系统包括192Ir探伤机和75Se探伤机;计算曝光时间,使用γ射线曝光计算器计算出单独使用192Irγ源对工件进行透照的曝光时间为t1,使用γ射线曝光计算器计算出单独使用75Seγ源对工件进行透照的曝光时间为t2,用公式计算同时使用192Irγ源和75Seγ源对工件进行透照所需要的曝光时间t:t=t1t2/(t1+t2);送源并对胶片进行曝光,按照确定的曝光时间t对胶片进行曝光;曝光时间结束后,收源。本发明透照厚度范围大,射线底片分辨率高,检测灵敏度高,且大大提高了检测效率。 | ||
搜索关键词: | 一种 同时 使用 不同 射线 照相 检测 方法 | ||
【主权项】:
一种同时使用两种不同γ源的射线照相检测方法,其操作步骤为:步骤一、组建射线照相检测系统所述的射线照相检测系统包括192Ir探伤机(1)和75Se探伤机(2);步骤二、计算曝光时间:使用γ射线曝光计算器计算出单独使用192Irγ源对工件进行透照的曝光时间为t1,使用γ射线曝光计算器计算出单独使用75Seγ源对工件进行透照的曝光时间为t2,用下列公式计算同时使用192Irγ源和75Seγ源对工件进行透照所需要的曝光时间t:t=t1t2/(t1+t2);步骤三、送源并对胶片进行曝光分别打开192Ir探伤机安全锁(7)和75Se探伤机安全锁(8),同时顺时针方向摇动192Ir驱动装置手柄(17)和75Se驱动装置手柄(18),将192Irγ源输送到192Ir输源管端部(11)的曝光焦点位置,将75Seγ源输送到75Se输源管端部(12)的曝光焦点位置,并按照步骤二确定的曝光时间t对胶片进行曝光;步骤四、收源步骤三曝光时间结束后,同时逆时针方向摇动192Ir驱动装置手柄(17)和75Se驱动装置手柄(18),将192Irγ源输收回到192Ir探伤机(1)的屏蔽位置,将75Seγ源输收回到75Se探伤机(2)的屏蔽位置,并分别锁上192Ir探伤机安全锁(7)和75Se探伤机安全锁(8)。
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