[发明专利]一种岩石地层多点位移激光测量方法及装置有效

专利信息
申请号: 201310675051.X 申请日: 2013-12-11
公开(公告)号: CN103670386B 公开(公告)日: 2016-11-02
发明(设计)人: 薛亚东;李硕标;杨文亮;葛嘉诚 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: E21B49/00 分类号: E21B49/00
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 林君如
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种岩石地层多点位移激光测量方法及装置,由反光片、激光发射器、孔口定位盘组成。在岩石地层中钻小口径的钻孔,在孔口端安装激光发射器,同时在孔壁设计测量点处粘贴反光片,激光发射器激发的激光束打到反光片以及钻孔底基准点上反射回来,可被激光发射器上的接收装置捕捉,激光发射器的采集装置计算并显示出反光片以及孔底基准点到激光发射器的距离,用激光发射器到孔底基准点的距离减去激光发射器到反光片的距离可得到反光片到孔底基准点的距离,每隔一定时间测量一次该距离,对比得出前后两(多)次该距离的差值即为所求位移或变形。
搜索关键词: 一种 岩石 地层 多点 位移 激光 测量方法 装置
【主权项】:
一种岩石地层多点位移激光测量方法,其特征在于,该方法利用激光测量岩石地层多点位移或变形,在小口径钻孔孔壁的不同深度和不同方位角度的测量点处粘贴反光片,在孔口安装孔口定位盘,在孔口定位盘上安装激光发射器,通过激光发射器可测量出激光发射器到反光片、孔底基准点的距离,用激光发射器到孔底基准点的距离减去激光发射器到反光片的距离可得到反光片到孔底基准点的距离,每隔一定时间测量记录一次该距离,对比得出前后两次的距离差值即得所求位移或变形。
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