[发明专利]一种使用硅模具的光阻墙成型方法

摘要

本发明提供了一种使用硅模具的光阻墙成型方法，其首先制作正面具有凸台阵列的硅模具，凸台之间的网格状凹槽形成模具型腔；将硅模具正面用模压的方法压在带热塑性材料的第一基板上；或者采用压注的方法将硅模具正面和第一基板之间填满热塑性材料；待热塑性材料填满模具型腔后，将硅模具与第一基板分模，在第一基板上形成光阻墙结构，再将第一基板进行清洗，去除第一基板和光阻墙结构上的残留物。所述硅模具可使用湿法刻蚀、干法刻蚀、激光切割或线切割的方法制作。其优点是：使用硅做模具可以大大降低模具制造成本，同时使用刻蚀方法可以方便灵活的制作不同图形的光阻墙结构。相比现有的光刻工艺，使用硅模具对光阻墙材料的要求具有更大的选择性。

主权项

一种使用硅模具的光阻墙成型方法，其特征是，包括以下步骤：（1）制作硅模具（1），所述硅模具（1）正面具有凸台阵列（2），凸台之间的网格状凹槽形成模具型腔；（2）在第一基板（4）上涂布热塑性材料（3），厚度为20至100微米，并加热至材料融化温度，将硅模具（1）正面用模压的方法压在带所述热塑性材料（3）的第一基板（4）上；或者采用压注的方法将硅模具（1）正面和第一基板（4）之间填满热塑性材料（3）；（3）待热塑性材料（3）填满模具型腔后，将硅模具（1）与第一基板（4）分模，在第一基板（4）上形成了光阻墙结构（6），再将第一基板（4）进行清洗，去除第一基板（4）和光阻墙结构（6）上的残留物。