[发明专利]一种浸没式曝光设备有效
| 申请号： | 201310636170.4 | 申请日： | 2013-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN104678712A | 公开（公告）日： | 2015-06-03 |
| 发明（设计）人： | 吴飞 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种浸没式曝光设备，包括硅片传输装置，掩模传输装置以及从下至上依次设置的光源、照明、掩模台、投影物镜、浸没场维持装置和工件台；所述硅片传输装置位于所述硅片台一侧；所述掩模传输装置位于所述掩模台一侧；从所述光源发出的光通过照明后，出射至位于所述掩模台上的掩模版，然后携带着掩模图像信息穿过所述投影物镜进入所述浸没场维持装置的浸液中，进而投影到位于所述工件台上的硅片的表面上；所述硅片的曝光表面在曝光时位于浸没场维持装置的浸液中，其特征在于，所述浸没场维持装置中的液面高度可控，所述浸没场维持装置具有进液口和出液口。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 浸没 曝光 设备 | ||
【主权项】：
一种浸没式曝光设备，包括硅片传输装置，掩模传输装置以及从下至上依次设置的光源、照明、掩模台、投影物镜、浸没场维持装置和工件台；所述硅片传输装置位于所述硅片台一侧；所述掩模传输装置位于所述掩模台一侧；从所述光源发出的光通过照明后，出射至位于所述掩模台上的掩模版，然后携带着掩模图像信息穿过所述投影物镜进入所述浸没场维持装置的浸液中，进而投影到位于所述工件台上的硅片的表面上；所述硅片的曝光表面在曝光时位于浸没场维持装置的浸液中，其特征在于，所述浸没场维持装置中的液面高度可控，所述浸没场维持装置具有进液口和出液口。
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