[发明专利]中心波长4580nm的一氧化氮气体检测滤光片有效

专利信息
申请号: 201310631445.5 申请日: 2013-11-29
公开(公告)号: CN103713344A 公开(公告)日: 2014-04-09
发明(设计)人: 吕晶;王继平;刘晶 申请(专利权)人: 杭州麦乐克电子科技有限公司
主分类号: G02B5/20 分类号: G02B5/20
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 周豪靖
地址: 311188 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明所设计的一种测试精度高、能极大提高信噪比的中心波长4580nm的一氧化氮气体检测滤光片,包括以蓝宝石为原材料的基板,以Ge、SiO为第一镀膜层和以Ge、SiO为第二镀膜层,且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间,该中心波长4580nm的一氧化氮气体检测滤光片,其中心波长4580±40nm,其在航空尾气气体检测过程中,可大大的提高信噪比,提高测试精准度。该滤光片的峰值透过率Tp≥80%、带宽=140±20nm,400~12000nm(除通带外),Tavg<0.5%。
搜索关键词: 中心 波长 4580 nm 一氧化氮 气体 检测 滤光
【主权项】:
一种中心波长4580nm的一氧化氮气体检测滤光片,包括以蓝宝石为原材料的基板,以Ge、SiO为第一镀膜层和以Ge、SiO为第二镀膜层,且所述基板位于第一镀膜层和第二镀膜层之间,其特征是:所述第一镀膜层由内向外依次排列包含有:65nm厚度的Ge层、216nm厚度的SiO层、139nm厚度的Ge层、292nm厚度的SiO层、81nm厚度的Ge层、300nm厚度的SiO层、145nm厚度的Ge层、114nm厚度的SiO层、134nm厚度的Ge层、454nm厚度的SiO层、113nm厚度的Ge层、220nm厚度的SiO层、208nm厚度的Ge层、198nm厚度的SiO层、113nm厚度的Ge层、567nm厚度的SiO层、206nm厚度的Ge层、248nm厚度的SiO层、222nm厚度的Ge层、452nm厚度的SiO层、256nm厚度的Ge层、282nm厚度的SiO层、119nm厚度的Ge层、635nm厚度的SiO层、293nm厚度的Ge层、1264nm厚度的SiO层、273nm厚度的Ge层、1109nm厚度的SiO层、414nm厚度的Ge层和526nm厚度的SiO层;所述第二镀膜层由内向外依次排列包含有:279nm厚度的Ge层、646nm厚度的SiO层、279nm厚度的Ge层、1292nm厚度的SiO层、279nm厚度的Ge层、646nm厚度的SiO层、279nm厚度的Ge层、646nm厚度的SiO层、279nm厚度的Ge层、2583nm厚度的SiO层、409nm厚度的Ge层、400nm厚度的SiO层、155nm厚度的Ge层和1096nm厚度的SiO层。
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