[发明专利]包括磁性叠层的装置、磁性元件及其制造方法有效
| 申请号： | 201310629462.5 | 申请日： | 2013-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN103854673B | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | V·K·三咖;M·W·科温顿 | 申请（专利权）人： | 希捷科技有限公司 |
| 主分类号： | G11B5/66 | 分类号： | G11B5/66;G11B5/84 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 钱慰民 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请公开了低阻面积磁性叠层。一种基本被配置有磁性叠层的磁性元件，该磁性叠层具有设置在第一和第二铁磁层之间的多层阻挡结构。该多层阻挡结构可具有设置在第一和第二合金层之间的二元化合物层，所述二元化合物具有金属元素和第二元素，其中至少一个合金层具有该金属元素以及与第二元素不同的第三元素。 | ||
| 搜索关键词： | 面积 磁性 | ||
【主权项】：
一种包括磁性叠层的装置，所述磁性叠层具有设置在第一和第二铁磁层之间的多层阻挡结构，所述多层阻挡结构具有设置在第一和第二合金层之间的二元化合物层，所述二元化合物具有金属元素和第二元素，至少一个合金层具有所述金属元素和第三元素，所述第三元素是从下组中选取的：Ba、Sr和Li。
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