[发明专利]纽扣的抛光方法

摘要

本发明公开了一种纽扣的抛光方法，在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比1∶2-1∶7，硅砂粉、化学抛光剂的添加量分别为固体物料总质量的2%-7%、0.5%-1.5%；所述高频瓷粒的尺寸为2.5×8.0mm或3×3mm；设定第一抛光时间，涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；根据第一次抛光效果，设定第二次抛光时间，至纽扣光泽度满足要求，清洗纽扣。本发明所述纽扣的抛光方法，抛光效率较传统方法抛光效率提高了3～4倍，抛光效果更加稳定，缩短了生产工期，降低了人工成本和员工劳动强度，且所制得的纽扣外观优良。

主权项

1.一种纽扣的抛光方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）在双联涡流抛光机内放入高频瓷粒、待抛光纽扣、硅砂粉、化学抛光剂，加水浸没上述物料；所述待抛光纽扣与高频瓷粒的质量比为1:2-1:7，硅砂粉的添加量为固体物料总质量的1%-5%，化学抛光剂的添加量为固体物料总质量的0.5%-1.5%；所述高频瓷粒的尺寸为2.5*8.0mm或3*3mm；（2）设定第一抛光时间，双联涡流抛光机的转速为100-180转/分钟；（3）根据第一次抛光效果，设定第二次抛光时间，至纽扣光泽度满足要求；（4）清洗纽扣。