[发明专利]一种p-n型Cu2O/TiO2纳米线阵列复合薄膜的制备方法无效

专利信息
申请号: 201310607763.8 申请日: 2013-11-27
公开(公告)号: CN103646989A 公开(公告)日: 2014-03-19
发明(设计)人: 丁旵明;杨圆圆;周岩 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 上海蓝迪专利事务所 31215 代理人: 徐筱梅;张翔
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种p-n型Cu2O/TiO2纳米线阵列复合薄膜的制备方法,该方法利用p-型无机半导体材料Cu2O敏化TiO2纳米线阵列,首先用水热法制得TiO2纳米线阵列薄膜,然后用电沉积的方法通过控制沉积时间的长短制得Cu2O纳米颗粒含量不同的p-n型Cu2O/TiO2纳米线阵列复合薄膜,Cu2O颗粒均匀分布在TiO2纳米线上。本发明简单易操作,原料低廉,设备简易;并且制得材料尺寸均一,稳定性、光电性能良好。
搜索关键词: 一种 cu sub tio 纳米 阵列 复合 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种p‑n型Cu2O/TiO2纳米线阵列复合薄膜的制备方法,其特征在于该方法包括以下具体步骤:a)TiO2纳米线阵列薄膜的制备取超纯水和质量分数为38%的浓HCL于烧杯中并在磁力搅拌器上搅拌至混合均匀,然后取钛酸四正丁酯逐滴加入上述溶液中,搅拌30min后形成无色溶液标记为溶液A;在高压反应釜内衬中放入一片导电面朝上的FTO导电玻璃基底,将溶液A转移至反应釜内衬中并淹没FTO导电玻璃基底,最后将高压反应釜放入150℃烘箱中加热10h~24h,反应结束后冷却至室温并用去离子水冲洗干净,即可得到TiO2纳米线阵列薄膜;其中钛酸正四丁酯、超纯水和质量分数为38%的浓HCL的体积比为0.02~0.65∶1∶1;     b)p‑n型Cu2O/TiO2纳米线阵列复合薄膜的制备配制CuSO4和C3H6O3(乳酸)混合溶液,并用5mol/L的NaOH溶液调节至pH=7~9,得到深蓝色溶液标记为溶液B,以B溶液为电解液,水浴加热至30℃,步骤a)制得的TiO2纳米线阵列薄膜为工作电极,Pt片为对电极,Ag/AgCl为参比电极,在外加电压为‑300mV下沉积5min~30min,并用去离子水冲洗干净即可得到Cu2O/TiO2纳米线阵列复合薄膜;其中CuSO4与C3H6O3的物质的量之比为2∶15。
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