[发明专利]磁流变液曲面抛光系统

摘要

本发明公开了一种磁流变液曲面抛光系统。磁流变液曲面抛光系统主要由磁场发生装置、抛光工件、抛光池、抛光轴、两坐标控制装置组成。在两坐标控制装置的控制下，抛光轴既做自转又在XY平面运动，其自转带动在磁场作用下形成的半固体态的磁流变液柔性磨头与抛光工件抛光曲面产生相对运动，并通过磁场发生装置调节抛光工件母线各点受到的磁场力，使得抛光工件母线各点的磨削量大小一致，从而对抛光工件进行均匀的抛光直至达到要求的抛光精度。本发明公开的磁流变液曲面抛光系统能对各种内外曲面进行抛光，粗糙度小且表面均匀度高。

主权项

磁流变液曲面抛光系统，其特征在于：主要由磁场发生装置、抛光池、抛光轴、抛光工件、两坐标控制装置组成。其中，1）所述的磁场发生装置的一极为抛光轴，另一极沿着抛光工件周向布置，沿着抛光工件母线各点的磁场大小可调；2）所述的抛光池中装有加有磨料的磁流变液；3）所述的抛光工件固定在抛光池中，且位于磁场两极之间；4）所述的抛光轴安装在两坐标控制装置上；5）所述的两坐标控制装置控制抛光轴的自转和在XY平面的运动轨迹。