[发明专利]磁流变液曲面抛光系统无效
| 申请号： | 201310599531.2 | 申请日： | 2013-11-25 |
| 公开（公告）号： | CN103612162A | 公开（公告）日： | 2014-03-05 |
| 发明（设计）人： | 曹修全;姚进;吴杰;余德平;童春;王万平;赵益 | 申请（专利权）人： | 四川大学 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610065 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 流变 曲面 抛光 系统 | ||
【权利要求书】：
1.磁流变液曲面抛光系统，其特征在于：主要由磁场发生装置、抛光池、抛光轴、抛光工件、两坐标控制装置组成。其中，1）所述的磁场发生装置的一极为抛光轴，另一极沿着抛光工件周向布置，沿着抛光工件母线各点的磁场大小可调；2）所述的抛光池中装有加有磨料的磁流变液；3）所述的抛光工件固定在抛光池中，且位于磁场两极之间；4）所述的抛光轴安装在两坐标控制装置上；5）所述的两坐标控制装置控制抛光轴的自转和在XY平面的运动轨迹。
2.根据权利要求1所述的磁流变液曲面抛光系统，其特征在于：所述的抛光工件抛光曲面为外轮廓面或者是内轮廓面，抛光工件母线为直线、圆弧线或者是函数曲线。
3.根据权利要求1所述的磁流变液曲面抛光系统，其特征在于：所述的抛光轴母线为与之对应的抛光工件母线函数曲线，并与抛光工件对应母线平行放置。
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