[发明专利]一种电感线圈及电感耦合等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201310573793.1 | 申请日： | 2013-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN104637767B | 公开（公告）日： | 2017-02-15 |
| 发明（设计）人： | 倪图强;梁洁 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01F38/14 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司31002 | 代理人： | 王洁 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体处理装置，包括一个气密的反应腔，反应腔包括反应腔侧壁和顶部的绝缘材料窗，反应腔内其包括一个用于支撑待处理基片的基座；绝缘材料窗上方固定有一个自屏蔽电感线圈，其特征在于所述自屏蔽线圈包括相互串联的第一线圈、中间线圈和第三线圈，其中中间线圈位于第一线圈和第三线圈下方且宽度大于第一线圈或第三线圈的宽度，一个射频电源施加射频电场到所述自屏蔽线圈的第一线圈输入端和第三线圈输出端之间，其中所述第三线圈输出端还连接有一个调平衡电路调节所述调平衡电路使所述自屏蔽线圈上形成驻波，所述中间线圈的电压幅度小于第一线圈或第三线圈上的电压幅度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电感线圈 电感 耦合 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
一种电感耦合等离子体处理装置，包括：一个气密的反应腔，反应腔包括反应腔侧壁和顶部的绝缘材料窗，反应腔内包括一个用于支撑待处理基片的基座；绝缘材料窗上方固定有一个电感线圈，所述电感线圈连接到一个射频电源；其特征在于：所述电感线圈包括第一线圈、第三线圈和一个中间线圈，所述第一线圈包括一个第一端连接到所述射频电源，还包括一个第二端连接到中间线圈第一端；中间线圈还包括一个第二端连接到所述第三线圈第一端；第三线圈还包括一个第二端连接到接地端，其中第一和第三线圈之间存在间隙且位于中间线圈上方，第一和第三线圈的投影在中间线圈上；所述第一线圈的第二端通过第一连接部(12)连接到下方的中间线圈，中间线圈第二端通过通过第二连接部(23)连接到上方的第三线圈，中间线圈上的第一连接部和第二连接部之间还包括一个开口使第一连接部和第二连接部互相隔离。
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