[发明专利]一种X射线光栅相位衬度成像装置和方法在审
| 申请号： | 201310557196.X | 申请日： | 2013-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN104622492A | 公开（公告）日： | 2015-05-20 |
| 发明（设计）人： | 吴自玉;王志立;高昆;刘刚;潘志云 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | A61B6/02 | 分类号： | A61B6/02;G01N23/04 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 宋焰琴 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种大视场、高衬度、低剂量的硬X射线光栅相位衬度成像装置和方法，所述装置包括源发射器(31)、源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32)，该源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32)依次设置在源发射器(31)的传播路径上，分束光栅(G1)的周期为30～50μm、高宽比不大于20。本发明通过增大光栅周期，提高分束光栅的空占比，同时增加物体到分析光栅的距离，提供了一种高图像衬度、低辐射剂量、大视场相位衬度成像的装置与方法，并且本发明能够利用常规多色X光源和现有的光栅制作工艺，适于实际临床应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 光栅 相位 成像 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种X射线光栅相位衬度成像装置，包括源发射器(31)、源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32)，该源光栅(G0)、分束光栅(G1)、分析光栅(G2)和探测器(32)依次设置在源发射器(31)的传播路径上，其特征在于：分束光栅(G1)的周期为30～50μm、高宽比不大于20。
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