[发明专利]用于磁控溅射阳极棒的支撑件及包括其的磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201310545471.6 | 申请日： | 2013-11-06 |
| 公开（公告）号： | CN103602954A | 公开（公告）日： | 2014-02-26 |
| 发明（设计）人： | 谢进平 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 刘华联;蒋宏飞 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于磁控溅射阳极棒的支撑件以及包括其的磁控溅射装置。该支撑件包括支撑棒和能与支撑棒固定配合的防镀挡板，支撑棒的第一端部构造成与阳极棒相配合的支撑端，第二端部构造成能与防镀挡板的安装孔固定连接的安装端以防止支撑棒从防镀挡板的安装孔中脱出，安装端的横截面相对于支撑棒的主体部分的横截面而缩小。根据本发明的支撑件的支撑棒与防镀挡片能牢固地连接在一起而不发生意外脱开。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 磁控溅射 阳极 支撑 包括 装置 | ||
【主权项】：
一种用于磁控溅射阳极棒的支撑件，包括：支撑棒和能与所述支撑棒固定配合的防镀挡板，其中，所述支撑棒的第一端部构造成与阳极棒相配合的支撑端，第二端部构造成能与所述防镀挡板的安装孔固定连接的安装端以防止所述支撑棒从所述防镀挡板的安装孔中脱出，所述安装端的横截面相对于所述支撑棒的主体部分的横截面而缩小。
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