[发明专利]一种用于介质内测量薄膜厚度和折射率的装置有效
申请号: | 201310537707.1 | 申请日: | 2013-11-04 |
公开(公告)号: | CN103759661A | 公开(公告)日: | 2014-04-30 |
发明(设计)人: | 彭瑜 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | G01B11/06 | 分类号: | G01B11/06;G01N21/21 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于介质内测量薄膜厚度和折射率的装置,属于光学测量技术领域。自半导体二极管发出的光线经非球面准直透镜准直后,以一定的角度入射到衍射光栅,再经衍射光栅衍射,其一级衍射被原路反射回,零级衍射经可拆卸的光隔离器后,再经过半波片,入射到F-P腔形成光反馈,其反馈光依次通过第二PBS、第一PBS后,被PD探测器检测,通过示波器显示出来,实现对反馈光强度和光谱特性的检测。本发明装置解决了介质内薄膜厚度和折射率的测量问题,且大幅度提高测量精度。该装置操作简单,稳定。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 介质 测量 薄膜 厚度 折射率 装置 | ||
【主权项】:
一种用于介质内测量薄膜厚度和折射率的装置,其特征在于:包括半导体二极管、非球面准直透镜、衍射光栅、半波片、可拆解的隔离器、PD探测器、F‑P腔、F‑P腔压电陶瓷和F‑P腔热沉;所述F‑P腔包括第一高反射膜、第二高反射膜和被测反射膜;第一高反射膜和第二高反射膜,均为平面结构,成一定角度放置,构成F‑P腔的两端反射面,反射率能达到99.9%;所成角度能保证光束分别垂直入射第一高反射膜和第二高反射膜;待测反射膜作为平面环形F‑P腔的入射面和输出耦合面;F‑P腔压电陶瓷粘在F‑P腔的第一高反射膜上,能对F‑P腔进行频率调谐;所述可拆解的隔离器包括第一偏振分束器、第二偏振分束器和磁极;第一偏振分束器、第二偏振分束器通过磁极连接;非球面准直透镜位于半导体二极管与衍射光栅之间,与半导体二极管同轴,位于衍射光栅的左侧位置,成衍射光的入射角;可拆解的隔离器位于衍射光栅的右侧位置,成第一衍射角;PD探测器位于第一偏振分束器的正下方;半波片位于可拆解的隔离器ISO与被测反射膜中间,与可拆解的隔离器ISO共轴;自半导体二极管发出的光线经非球面准直透镜准直后,入射到衍射光栅,再经衍射光栅衍射,其一级衍射被原路反射回,零级衍射经可拆卸的光隔离器后,再经过半波片,入射到F‑P腔形成光反馈,其反馈光依次通过第二偏振分束器、第一偏振分束器后,被PD探测器检测,通过示波器显示,实现对反馈光强度和光谱特性的检测。
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