[发明专利]一种用于反应腔的屏蔽结构在审
| 申请号： | 201310533349.7 | 申请日： | 2013-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN104593735A | 公开（公告）日： | 2015-05-06 |
| 发明（设计）人： | 佘清;吕铀 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于反应腔的屏蔽结构，其中，反应腔包括介质窗，屏蔽结构包括遮挡件和遮挡层，遮挡层设置在所述介质窗的内壁上，且遮挡层包括至少一个缺口，以使遮挡层在周向上不连续，遮挡件设置在所述介质窗的内壁上并位于所述缺口中，且遮挡件凸出于所述介质窗的内壁，遮挡件与遮挡层之间形成有射频能量传送通道。本发明能够防止溅射粒子或者带电离子轰击介质窗的内壁，同时能够避免溅射粒子沉积出的金属层产生闭合环路，以及避免溅射粒子剥落后造成的颗粒污染。与现有技术相比，本发明克服了现有技术中屏蔽层结构的齿状沟槽中容易沉积溅射粒子导致齿状沟槽闭合的问题，同时，降低了加工精度的要求，节约了成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 反应 屏蔽 结构 | ||
【主权项】：
一种用于反应腔的屏蔽结构，所述反应腔包括介质窗，其特征在于，所述屏蔽结构包括遮挡件和遮挡层，所述遮挡层设置在所述介质窗的内壁上，且所述遮挡层包括至少一个缺口，以使所述遮挡层在周向上不连续，所述遮挡件设置在所述介质窗的内壁上并位于所述缺口中，且所述遮挡件凸出于所述介质窗的内壁，所述遮挡件与所述遮挡层之间形成有射频能量传送通道。
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