[发明专利]具有多图案形成需求的集成电路中的寄生提取有效

专利信息
申请号: 201310532624.3 申请日: 2013-10-31
公开(公告)号: CN103793548A 公开(公告)日: 2014-05-14
发明(设计)人: N.巴克;B.德雷贝尔比斯;J.P.杜布奎;E.A.福尔曼;P.A.哈比茨;D.J.哈撒韦;J.G.赫梅特;N.文凯特斯沃兰;C.维斯韦斯瓦里亚;V.佐洛托夫 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邸万奎
地址: 美国纽*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 提供用于在具有多图案形成需求的集成电路的设计中提取寄生的系统和方法。所述方法包括确定电阻解决方案和电容解决方案。所述方法还包括执行电阻解决方案和电容解决方案的寄生提取,以生成电阻解决方案和电容解决方案的均值。所述方法还包括在寄生提取期间对于电阻解决方案和电容解决方案的每个捕获多图案形成变化源。所述方法还包括确定每个捕获的变化源对于参数的各个矢量的敏感度。所述方法还包括通过将电阻解决方案和电容解决方案的每个乘以所确定的对于每个各自捕获的变化源的敏感度而确定统计寄生。所述方法还包括以矢量形式和坍塌减小的矢量形式的至少一个生成统计寄生作为输出。
搜索关键词: 具有 图案 形成 需求 集成电路 中的 寄生 提取
【主权项】:
一种用于集成电路设计中的多图案形成的寄生提取的方法,所述方法包括:使用处理器,对于集成电路设计的网表确定电阻解决方案和电容解决方案;执行电阻解决方案和电容解决方案的寄生提取,以生成电阻解决方案和电容解决方案的均值;在寄生提取期间对于电阻解决方案和电容解决方案的每个捕获多图案形成变化源;确定每个捕获的变化源对于参数的各个矢量的敏感度;通过将电阻解决方案和电容解决方案的每个乘以所确定的每个各自捕获的变化源的敏感度而确定统计寄生;以及以矢量形式和坍塌减小的矢量形式的至少一个生成统计寄生作为输出。
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