[发明专利]一种X光高温高压催化反应炉无效

专利信息
申请号: 201310529798.4 申请日: 2013-10-30
公开(公告)号: CN103638875A 公开(公告)日: 2014-03-19
发明(设计)人: 张晓哲;孙凡飞;姜政 申请(专利权)人: 张晓哲
主分类号: B01J3/04 分类号: B01J3/04;B01J19/12;B01J19/02
代理公司: 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 代理人: 郑自群
地址: 110000 辽宁省沈阳*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明提出了一种X光高温高压催化反应炉,包括:气体进口通道、炉上盖、炉腔、底座和气体出口通道,气体进口通道通过连通孔与炉腔导通,炉腔内部设置有加热室、设置于加热室内的加热器和设置于加热室外侧的屏蔽层,屏蔽层上均匀设置有至少一个匀气孔,反应气体依次按照气体进口通道、屏蔽层、加热室的顺序流通,并通过气体出口通道排出。本发明的屏蔽层设置有匀气孔,因此在对样品进行催化时,从气体入口通道进入的反应气体可以均匀地通过屏蔽层的匀气孔进入加热室,完成催化过程后,再从气体出口通道排出,此种进气方式可以使反应气体更加均匀同时降低保护层处及炉腔外层的温度,同时保护操作者不被烫伤。
搜索关键词: 一种 高温 高压 催化 反应炉
【主权项】:
一种X光高温高压催化反应炉,其特征在于,包括:气体进口通道、炉上盖、炉腔、底座和气体出口通道,所述气体进口通道通过连通孔与所述炉腔导通,所述炉腔内部设置有加热室、设置于所述加热室内的加热器和设置于所述加热室外侧的屏蔽层,所述屏蔽层上均匀设置有至少一个匀气孔,反应气体依次按照所述气体进口通道、所述屏蔽层、所述加热室的顺序流通,并通过所述气体出口通道排出。
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